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科研級磁控濺射設(shè)備—MS-300品牌
致真精密產(chǎn)地
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MS-300磁控濺射設(shè)備具有超高真空、單原子層沉積精度的特點(diǎn)，可以靈活選擇陰極向上或向下濺射。設(shè)備標(biāo)配3個(gè)2英寸超高真空陰極。滿足實(shí)驗(yàn)室中科學(xué)研究的需求，維護(hù)簡單，運(yùn)行穩(wěn)定。
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