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等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-PECVD
等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-PECVD

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等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-PECVD

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助研儀器

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安徽

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安徽助研儀器有限公司

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名稱:等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-PECVD

型號:ZYE-1200-PE

簡介:為了使化學(xué)反應(yīng)能在較低的溫度下進(jìn)行,利用了等離子體的活性來促進(jìn)反應(yīng),因而這種CVD稱為等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積法(PECVD)。它是由500W射頻電源、1200℃單溫區(qū)管式爐、三通道質(zhì)量流量混氣系統(tǒng)和真空系統(tǒng)組成。此款PECVD系統(tǒng)用于生長納米線、石墨烯或SiC薄膜等

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