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M82300-3/UM型PECVD鍍膜設(shè)備品牌
電子科技產(chǎn)地
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PECVD鍍膜設(shè)備即等離子體增強化學(xué)氣相淀積設(shè)備，是利用高頻電源輝光放電產(chǎn)生等離子體對化學(xué)氣相沉積過程施加影響的技術(shù)。
M82300-3/UM型五管PECVD設(shè)備既可用于淀積電池片正面氧化硅減反射膜，也可用于淀積電池片背面鈍化膜。
硅片尺寸可從166mm兼容到220mm;
單管載片量可到680片，雙舟設(shè)計；
輔助加熱技術(shù)，可大幅改善工藝均勻性；
具備背面氧化鋁工藝能力。
暫無數(shù)據(jù)！
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