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ASML Holding NV (ASML) 于2006年末推出了其**的 TWINSCAN 系統(tǒng)，這是一種先進(jìn)的 193 納米 (nm) 曝光系統(tǒng)，具有成像、覆蓋和吞吐量改進(jìn)的特點。TWINSCAN XT:1450 的目標(biāo)是大批量制造，將干燥 ArF 擴展到亞 60 nm?？蛻暨€可以使用它來支持使用雙圖案技術(shù)開發(fā) 32 納米節(jié)點工藝。

XT:1450 是先進(jìn)的干式 ArF 批量生產(chǎn)系統(tǒng)。它提高了 IC 制造商的所有權(quán)價值，在批量制造條件下每小時可生產(chǎn) 143 片晶圓。新的 AERIAL-P 照明器支持高效偏振，加上增強的鏡頭像差控制和增強的疊加性能，使 XT:1450 能夠?qū)⒏?ArF 的極限擴展到 57 nm 的指定分辨率。