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SUSS半自動濕法處理設備AD12品牌
佳鼎半導體產地
山東樣本
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SUSS MicroTec的半自動濕處理系統(tǒng)AD12為水介質應用提供了**的清潔和開發(fā)功能。單晶片處理平臺可用于工件,晶片尺寸高達300mm,方形基板高達230mmx230mm,用于晶片的帶框高達300mm。它處理各種媒體和過程的能力提供了在應用程序之間切換所需的靈活性,使該工具成為研究環(huán)境和小規(guī)模生產的**。
SUSS半自動濕法處理設備AD12通過使用優(yōu)化的卡盤處理多種不同類型的基板,展示了其多功能性。即使是易碎的襯底(例如InP、GaAs)也可以安全地處理。特殊工具和廣泛的易于調節(jié)的過程參數表使SUSS半自動濕法處理設備AD12適用于涉及水介質的許多過程應用。該系統(tǒng)能夠編程參數,如步長時間、旋轉速度、加速度和減速度、分配臂位置和旋轉運動,允許優(yōu)化工藝流程,從而產生可重復和穩(wěn)定的工藝結果。AD12配備了SUSS MicroTec復雜的分配技術,有效地支持開發(fā)和清潔
SUSS半自動濕法處理設備AD12為不同的工藝需求提供了廣泛的分配技術??梢赃\行多種過程:從簡單的膠泥或噴霧顯影到剝離,除了用于浸泡和*終沖洗的膠泥分配器外,還需要用于剝離抗蝕劑和金屬的高壓分配器。上述所有分配技術都可以在SUSS半自動濕法處理設備AD12的分配臂上配置。
SUSS半自動濕法處理設備AD12是為處理水介質的特殊需要而定制的。與工藝化學品接觸的所有零件均由不易受影響的材料制成。排水管可以連接到房屋排水管或廢物罐。
介質安全存儲在配有排氣連接的介質存儲器中,并由泄漏檢測器固定。流量控制系統(tǒng)和壓力調節(jié)器管理介質??蛇x地,可以控制介質溫度以確保**工藝結果??梢园惭b介質再循環(huán)系統(tǒng),以減少總體介質消耗。
SUSS半自動濕法處理設備AD12易于操作和維護。只需按下一個按鈕,即可調用工藝參數和介質數據。可編程配方加快了工作流程,促進了重復性。所有零件均易于接近,便于操作和維護工具。此外,該工具的設計主要側重于操作安全。帶有自動安全玻璃門的密封工藝室確保了封閉的工藝環(huán)境,并便于對工藝進行監(jiān)控。聯鎖傳感器保證工具的安全操作。
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