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德國(guó)海德堡Heidelberg激光直寫(xiě)光刻機(jī) MLA100
適合用科研領(lǐng)域的中小型實(shí)驗(yàn)室與大學(xué)研究所
支持套刻直寫(xiě)功能
MLA100聚焦于合理價(jià)格下依然維持高性能，是許多研發(fā)應(yīng)用的理想光刻解決方案。該光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)為以50mm2/min的速度在光刻膠中直寫(xiě)出1μm結(jié)構(gòu)，而無(wú)需使用掩膜板。從光刻工藝中免除掩膜板步驟制程以增加靈活性并顯著縮短圖形制作周期。MLA100由曝光指引系統(tǒng)(GUI)控制，該系統(tǒng)可指導(dǎo)操作員完成整個(gè)過(guò)程：加載基材信息，選擇設(shè)計(jì)并開(kāi)始曝光。面積為60x75cm2的MLA100設(shè)計(jì)用于安裝在中小型的研發(fā)實(shí)驗(yàn)室中，只需要電源和壓縮空氣即可運(yùn)行。
MLA100的應(yīng)用包括Life Science， MEMS， Micro-Optics， Semiconductor， Sensors， Actuators， MOEMS， Material Research， Nano-Tubes， Graphene以及任何其他需要微結(jié)構(gòu)的應(yīng)用。
功能:
刻寫(xiě)速度:50 mm2/分鐘的速度
基板尺寸:6 x 6”
曝露面積:100 x 100毫米
結(jié)構(gòu)精度:1μm
大功率LED光源
基于SLM光引擎
多種數(shù)據(jù)輸入格式
基本灰度曝光模式
對(duì)準(zhǔn)攝像系統(tǒng)
實(shí)時(shí)自動(dòng)對(duì)焦
User-optimized接觸向?qū)?/span>
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