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應(yīng)用：

◆ASML、Nikon、Canon光刻機等。

技術(shù)參數(shù)：

日本Gigaphoton公司是全球頂尖的深紫外光刻機（DUV Scanner）的光源供應(yīng)商，其研發(fā)并生產(chǎn)的KrF（248nm）準分子激光與ArF（193nm）準分子激光代表了當(dāng)今半導(dǎo)體業(yè)界的*前沿技術(shù)。

主要特點：

◆波長控制技術(shù)：通過使用Piezo控制技術(shù)使得波長控制響應(yīng)時間大為縮短；

◆腔體壽命延長：通過改進腔體電極的材料，使得腔體壽命進一步延長；

◆KrF：技術(shù)成熟，穩(wěn)定性高（Uptime 達99.9%），耗材壽命長，現(xiàn)已成為各大半導(dǎo)體廠商標準配置；

◆ArF：設(shè)計先進，穩(wěn)定性高，CoC（運行成本）與CoD（停機維護成本）都達到了業(yè)界**水平；

◆ArF Immersion：ArF 浸潤式是目前可量產(chǎn)的光刻技術(shù)極限。Gigaphoton 是一個被半導(dǎo)體廠商和光刻機廠商認可的光源供應(yīng)商，也是*早進入量產(chǎn)階段的廠商。其設(shè)計先進，具有波長和帶寬穩(wěn)定控制技術(shù)、耗材復(fù)用及長壽命技術(shù)、化學(xué)氣體長周期使用等一系列提高性能與穩(wěn)定性并降低運行成本的核心技術(shù)。ArF Immersion機臺率先使用了帶寬控制(BCM)技術(shù)，能夠穩(wěn)定的控制E95，減少CD Error的出現(xiàn)。