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微波等離子化學(xué)氣相沉積(MPCVD)系統(tǒng) —— C型
微波等離子化學(xué)氣相沉積(MPCVD)系統(tǒng) —— C型

參考價(jià)格

面議

型號

微波等離子化學(xué)氣相沉積(MPCVD)系統(tǒng) —— C型

品牌

華宇東升

產(chǎn)地

四川

樣本

暫無
成都華宇東升微波設(shè)備有限公司

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微波等離子化學(xué)氣相沉積(MPCVD)系統(tǒng) 

—— C

    一款先進(jìn)的碟形腔體微波等離子體化學(xué)氣相沉積設(shè)備,可應(yīng)用于單晶金剛石和多晶金剛石薄膜、類金剛石薄膜的化學(xué)氣相沉積以及材料表面處理、改性及摻雜等相關(guān)研究工作。

       微波輸入采用下饋的方式,為腔體結(jié)構(gòu)的優(yōu)化提供了更大的空間。

 該設(shè)備可以在相對大面積的襯底上進(jìn)行單晶和多晶金剛石生長,具備平面和非平面金剛石(HDC)的生長能力。其中,單晶金剛石沉積厚度上限不低于6mm,多晶金剛石沉積厚度上限不低于500μm。


性能特點(diǎn):

?采用高效散熱的樣品臺

?產(chǎn)品沉積速率快、沉積質(zhì)量高

?穩(wěn)定的微波輸入

?**功率達(dá)到10kW

?能先進(jìn),安全、可靠性強(qiáng)、重現(xiàn)性好

?多參數(shù)實(shí)時監(jiān)測、多重聯(lián)鎖保護(hù)與報(bào)警

?為用戶提供沉積工藝解決方案


主要技術(shù)參數(shù):


微波源

6kW10kW可選,2.45GHz

反應(yīng)腔碟形反應(yīng)腔,可承載微波功率>10kW

反應(yīng)腔打開方式

揭蓋式或升降式,可選
微波饋入方式腔體下方
微波泄露<1mW/cm2
極限真空度<5×10-4Pa
真空漏率<5×10-10 Pa·L/s
氣體質(zhì)量流量控制標(biāo)配5路,可定制
工作氣壓0.8kPa - 40kPa
基板臺類型水冷式基板臺
標(biāo)準(zhǔn)襯底托65mm、75mm、85mm直徑圓臺面積穩(wěn)定沉積
樣品臺升降功能有,可選
樣品臺旋轉(zhuǎn)功能

有,可選;

  • 旋轉(zhuǎn)模式:連續(xù)轉(zhuǎn)動、間隙轉(zhuǎn)動

  • 旋轉(zhuǎn)角度:360°;

  • 旋轉(zhuǎn)速度:0~20轉(zhuǎn)/分,可調(diào)節(jié)

非平面(球面)金剛石樣品臺可選
操作系統(tǒng)PLC控制系統(tǒng)
單次連續(xù)工作時間>300h


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10分

易用性

10分

性價(jià)比

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