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脈沖局部電鍍技術
適用于超薄種子層
高產能
獨立模塊設計
低耗材成本COC和運行成本COO
設備應用于300毫米晶圓
*多可配至3個Load Port
*多可配至4個電鍍腔體配備脈沖局部電鍍功能
*多可配至4 個清洗腔體
*多可配至8個退火腔體
電鍍均一性:
WIWNU < 1.5%
WTWNU < 1.5%
暫無數據！
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