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全自動(dòng)大尺寸光刻機(jī)
全自動(dòng)大尺寸光刻機(jī)

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MIDAS SYSTEM公司開(kāi)發(fā)并生產(chǎn)用于半導(dǎo)體、MEMS、LED及納米技術(shù)相關(guān)的實(shí)驗(yàn)室和工業(yè)領(lǐng)域的光罩對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)和甩膠機(jī),是韓國(guó)**家研發(fā)并商業(yè)化光罩對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)的企業(yè),始終致力于不斷完善、增強(qiáng)技術(shù)型企業(yè)的核心競(jìng)爭(zhēng)力。

MIDAS SYSTEM公司具有專(zhuān)業(yè)化的設(shè)計(jì)團(tuán)隊(duì),以客戶(hù)需要為己任,生產(chǎn)、供應(yīng)滿(mǎn)足國(guó)內(nèi)外企業(yè)、科研院所不斷增長(zhǎng)的應(yīng)用需求,并且提供半導(dǎo)體工藝相關(guān)的設(shè)備需要。

MDA-12SA型曝光機(jī)是一款MIDAS公司新開(kāi)發(fā)的產(chǎn)品,代表了下一代全區(qū)域光刻系統(tǒng)。這一新型半自動(dòng)化對(duì)準(zhǔn)曝光平臺(tái)具有更高的重復(fù)光刻精度以及更可靠的操作,非常適合陶瓷及其他探針卡應(yīng)用,同時(shí)MDA-12SA型半動(dòng)化光罩對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)具有更高的生產(chǎn)能力和容易操控。

項(xiàng)目參數(shù)
光源能量紫外曝光光源光強(qiáng)2000~5000W,輸出能量可控
光束范圍14.25″× 14.25″
均勻光束范圍13.25″× 13.25″
光束均勻性<3%~5%
365nm輸出光束強(qiáng)度5KW 25~60mW/cm2,2 KW 15~30mW/cm2
400nm輸出光束強(qiáng)度5KW 50~100mW/cm2,2 KW30~50mW/cm2
可調(diào)節(jié)曝光時(shí)間0.1~999.9s
范圍觀察顯微鏡/CCD相機(jī)安裝(480~1000倍可變放大,1600倍可選)
電動(dòng)觀察范圍移動(dòng)顯微鏡x、y、z電動(dòng)操作(手柄控制)
電動(dòng)樣品臺(tái)樣品臺(tái)x、y、z、Theta電動(dòng)操作
卡盤(pán)移動(dòng)大范圍。靜態(tài)對(duì)準(zhǔn)工具模塊進(jìn)行x、y、z、Theta移動(dòng)
卡盤(pán)水平楔形誤差補(bǔ)償(楔形位置自動(dòng)感應(yīng),壓力傳感器,警報(bào))
基片尺寸直至14″× 14″
掩模板規(guī)格可替換的直至15″× 15″
真空卡盤(pán)移動(dòng)x、y:10mm;Theta:4×
Z向移動(dòng)距離10mm
接觸模式接近式、軟接觸式、硬接觸式、真空接觸式(真空接觸力可調(diào)節(jié))
接近調(diào)節(jié)1μm步進(jìn)可調(diào)節(jié)程序化控制系統(tǒng)
對(duì)準(zhǔn)精度1μm
顯示器17″觸屏
氣動(dòng)控制基片、掩膜、接觸、接觸調(diào)節(jié)、卡盤(pán)鎖、N2、N2調(diào)節(jié)
分辨率1μm(真空接觸下近紫外)
擺放防震桌
選件CCD BSA、DUV、紫外強(qiáng)度計(jì)

■ Auto Exposure / Alignment System

■ 2~6 inch wafer process

■ Interface between Aligner and Robot : RS-232C

■ Auto Loading and Unloading Using Double Robot Arm

■ Auto-Alignment with Vision System

■ Pre-Alignment and Automatic Positioning

■ Anti-Vibration Table

■ Dual CCD Auto zoom Microscope ? Variable Magnification : Max. 1400x

■ 17inch LCD touch monitor

■ Wedge Error Compensation

■ Throughput :Alignment : 120WPH PSS, First layer : 170WPH

Item Specification
Exposure System Lamp Power 350W UV Lamp(OSRAM)
Resolution 0.8um (Vacuum contact)
Beam Uniformity ≤ ± 5% (6inch standard)
Intensity 20~25mW/cm2:350~450nm
Adjustable Exposure Time 0.1 to 999.9 sec
Alignment System Alignment Accuracy 1um
Alignment Gap 20 to 200um
Pre-Alignment Accuracy ± 50um
Process Mode Vacuum, Hard, Soft Contact and Proximity
*Proximity Gap is 20um to 200um
Proximity Adjustment adjustable 1 micron increments Program Control System
Throughput>120 wafer/hour (Auto alignment) 170 wafer/hour (PSS, First layer)
Sample Substrate 2 ~ 6 inch
Mask Size 3 ~ 7 inch
Utilities Vacuum > 650mmHg
CDA > 6Kg/cm2
N2 > 4Kg/cm2
Electricity 220V, 30A, 1Phase
Monitor Touch LCD 17" Monitor
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易用性

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