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高真空硬碳膜制備系統(tǒng)--FHL600品牌
沈陽科學儀器產(chǎn)地
遼寧樣本
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真空室結(jié)構(gòu):
圓筒形上升蓋
真空室尺寸:
φ600×500mm
極限真空度:
≤6.0E-4Pa
沉積源:
樣品尺寸，溫度:
φ240mm，1片，水冷卻
占地面積（長x寬x高）:
約3米×1.1米x2米
電控描述:
全自動
工藝:
提供標準鍍膜工藝
特色參數(shù) :
1路工作氣路，2路備用氣路
產(chǎn)品概述：
本系統(tǒng)為單室立式結(jié)構(gòu)的高真空鍍鍍膜設(shè)備，可用于開發(fā)單層膜-類金剛石膜等。系統(tǒng)主要由鍍膜室、靶電極、射頻電源、樣品轉(zhuǎn)臺、泵抽系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、電控系統(tǒng)、加熱控溫系統(tǒng)、水冷卻系統(tǒng)等組成。
設(shè)備用途：
可用于開發(fā)類金剛石膜等
暫無數(shù)據(jù)！
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