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高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統(tǒng)--PLD300
高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統(tǒng)--PLD300

參考價格

面議

型號

高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統(tǒng)--PLD300

品牌

沈陽科學儀器

產地

遼寧

樣本

暫無
中國科學院沈陽科學儀器股份有限公司

高級會員

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第1年

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生產商

工商已核實

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占地面積(長x寬x高):

約1.8米x0.97米x1.9米

 

電控描述:

全自動

 

工藝:

片內膜厚均勻性:≤±5%

 


產品概述:
系統(tǒng)主要由濺射真空室、旋轉靶臺、抗氧化基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機臺、真空測量及電控系統(tǒng)等部分組成。

設備用途:
用于制備超導薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、超硬薄膜等。廣泛應用于大專院校、科研院所進行薄膜材料的科研。

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