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團(tuán)簇式(星型)多腔體真空沉積系統(tǒng)(Cluster)
團(tuán)簇式(星型)多腔體真空沉積系統(tǒng)(Cluster)

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美國

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上海載德半導(dǎo)體技術(shù)有限公司

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團(tuán)簇式多腔體真空系統(tǒng)(星型)用于多層膜結(jié)構(gòu)的沉積和生長(zhǎng),可以消除交叉污染,有利于高品質(zhì)電學(xué)器件的制備。

Cluster tools eliminate cross-contamination in multi-layer thin film structures and allow the production of high-quality electronic devices. Each module as described below is controlled independently allowing simultaneous deposition in all chambers.

真空水平 Vacuum:Ultra-high vacuum (UHV).

基底尺寸 Substrate size:10cmx10cm or 15.6cmx15.6cm.

功能模塊 Modules:

  • PECVD: RF, VHF and pulsed (modulated) RF plasma.

  • HWCVD.

  • Sputtering (ITO, AZO, metals, etc) with oscillation.

  • Laser crystallization.

  • Rapid thermal annealing.

  • Park station with heating capability

  • Isolation and Transfer Zone (ITZ) with robotic arm (8 or 10 port locations)

  • Load lock with the following options:

    • single substrate capability.

    • connection to glove box.

    • multi-substrate capability.

  • In-situ characterization module

系統(tǒng)控制 Control:Computer controlled with easy to use HMI and optional data logging.

系統(tǒng)保證 Systems guarantees are defined in the contract and include*:

  • Base pressure on each chamber

  • Temperature calibration

  • Uniformity and opto-electronic properties for each material defined in the contract

  • Functionality of all systems

* These are demonstrated during the Factory (or First) acceptance test (FAT) and Site (or Second) Acceptance Tests (SAT)

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10分

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10分

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