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真空快速退火爐AS-Micro

AS-Micro是一款適用于實(shí)驗(yàn)室研究的真空快速退火爐，性能**。

可處理從幾平方毫米到3英寸直徑或正方形的基板。

可搭配分子泵實(shí)現(xiàn)高真空下熱處理工藝。

**溫度1250 ℃，*快升溫速率250℃/Second。

全程PC軟件控制升溫程序，保證溫度不過沖，控溫精度準(zhǔn)確。

擁有雙腔室，避免交叉污染。

應(yīng)用：

•快速熱退火

•植入退火

•歐姆接觸退火

•快速熱氧化（RTO）

•快速熱氮化（RTN）

•石墨烯快速熱化學(xué)氣相沉積

產(chǎn)品特點(diǎn)：

1、紅外鹵素?zé)艄芗訜?，冷卻采用風(fēng)冷（低噪音水平，無需壓縮空氣）；

2、加熱由功率控制而非電壓控制，避免了由于燈絲老化電阻改變導(dǎo)致的后續(xù)使用中加熱不均的問題，保證了良好的重現(xiàn)性及均溫性，即使在后續(xù)使用過程中更換了部分新的燈管也可以達(dá)到*初的熱處理效果；

3、石英腔體，腔體冷卻采用水冷，冷壁設(shè)計(jì)，雙層不銹鋼；

冷壁水冷技術(shù)優(yōu)點(diǎn)在于：1、無記憶，2、工藝重復(fù)性高，3、冷卻速度快；

4、反應(yīng)腔室的設(shè)計(jì)，氣體的進(jìn)入口設(shè)計(jì)在wafer的表面，避免在退火過程中冷點(diǎn)的產(chǎn)生。很好的保證了樣品在加熱過程中的均溫性；

5、快速數(shù)字PID控溫；

6、熱電偶設(shè)計(jì)上采用中間和邊緣安裝模式，測試的樣品的溫度，控溫精準(zhǔn)；

7、大氣和真空工藝均適合，凈化氣體配針閥；

8、*多3工藝氣體，配數(shù)字質(zhì)量流量控制器；

9、電腦通過以太網(wǎng)連接更快的數(shù)據(jù)傳輸速度；

10、可選配石墨托盤表面涂SiC薄膜設(shè)計(jì)，用于小樣品測試；

11、可選配分子泵，用于高真空測試；

12、可選配雙腔體設(shè)計(jì)， 達(dá)到高潔凈工藝，避免交叉污染。

產(chǎn)品標(biāo)準(zhǔn)配置及規(guī)格參數(shù)：

1、樣品**尺寸：3-inch；

2、溫度范圍：室溫~1250 ℃；

3、升溫速率：0.1 ℃~250 ℃/s ；

4、溫度控制：快速數(shù)字PID控制；

5、熱電偶：2N型熱電偶；

6、工藝氣體氣路配質(zhì)量流量計(jì)；

7、配置真空泵及真空規(guī)：

8、樣品腔室尺寸（單室）：700*700*700mm (W*D*H)；凈重82Kg；

樣品腔室尺寸（雙室）：700*700*1825mm (W*D*H；凈重142Kg；