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晶圓盒清洗機(jī) 芯矽科技
晶圓盒清洗機(jī) 芯矽科技

參考價(jià)格

面議

型號

晶圓盒清洗機(jī)

品牌

芯矽科技

產(chǎn)地

蘇州

樣本

暫無
蘇州芯矽電子科技有限公司

會員

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第1年

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生產(chǎn)商

工商已核實(shí)

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晶圓盒清洗機(jī)(FOUP/FOSB Cleaner)是半導(dǎo)體制造中用于清潔存儲晶圓的容器(如Front Opening Unified Pod, FOUP)的專用設(shè)備。晶圓盒在運(yùn)輸、存儲過程中易吸附環(huán)境污染物(如顆粒、有機(jī)物、金屬離子等),若未徹底清潔,可能導(dǎo)致晶圓表面污染,影響良率。該設(shè)備通過物理或化學(xué)手段去除盒內(nèi)殘留雜質(zhì),確保晶圓存儲環(huán)境的高度潔凈,是半導(dǎo)體前道制程(FEOL)與后道封裝(BEOL)的關(guān)鍵環(huán)節(jié)。

核心技術(shù)原理

清洗方式

濕法清洗:采用化學(xué)溶劑(如DIW去離子水、IPA醇類、酸性/堿性溶液)結(jié)合超聲波或噴淋,溶解并沖刷污染物。

干法清洗:利用等離子體、紫外線或高壓氣流去除有機(jī)物或顆粒,適用于敏感材料。

復(fù)合清洗:濕法+干法結(jié)合,提升清潔效率與均勻性。

污染物去除機(jī)制

顆粒清除:通過高速流體沖刷(如高壓噴淋、兆聲波空化效應(yīng))剝離微小顆粒。

有機(jī)物分解:紫外線或臭氧氧化分解有機(jī)殘留,等離子體增強(qiáng)反應(yīng)活性。

金屬離子去除:酸性/螯合劑溶液溶解金屬污染物,配合DIW沖洗防止二次污染。

設(shè)備結(jié)構(gòu)與核心組件

進(jìn)料系統(tǒng)

自動裝載機(jī)構(gòu):支持FOUP/FOSB的機(jī)械臂抓取或傳送帶輸入,兼容多尺寸晶圓盒(如12寸、14寸)。

防塵罩設(shè)計(jì):防止外界顆粒進(jìn)入清洗腔,保持潔凈環(huán)境。

清洗模塊

超聲波清洗槽:高頻超聲波(80kHz~1MHz)產(chǎn)生空化效應(yīng),剝離頑固顆粒和有機(jī)物。

噴淋臂與旋轉(zhuǎn)臺:360°噴淋覆蓋盒體內(nèi)部,旋轉(zhuǎn)臺確保清洗均勻性。

等離子體模塊(可選):用于去除殘留有機(jī)物或活化表面,提升后續(xù)工藝兼容性。

干燥系統(tǒng)

熱氮烘干:高溫氮?dú)獯祾呖焖俑稍铮苊馑疂n殘留。

真空干燥腔:低溫抽真空脫水,適用于敏感材料晶圓盒。

IPA(異丙醇)脫水:蒸汽置換水分,無接觸干燥防損傷。

控制與監(jiān)測系統(tǒng)

PLC+HMI人機(jī)界面:預(yù)設(shè)清洗程序(如時(shí)間、溫度、流速),支持參數(shù)自定義與數(shù)據(jù)存儲。

顆粒檢測傳感器:實(shí)時(shí)監(jiān)測清洗后晶圓盒的潔凈度(如激光粒子計(jì)數(shù)器)。

RFID識別:讀取晶圓盒ID,自動匹配清洗工藝參數(shù)。

廢氣與廢液處理

酸堿中和系統(tǒng):處理化學(xué)液排放,符合環(huán)保標(biāo)準(zhǔn)。

排風(fēng)過濾裝置:活性炭吸附或化學(xué)洗滌塔處理揮發(fā)性有機(jī)物(VOC)。

應(yīng)用場景

前道制程(FEOL)

光刻前晶圓盒清潔,避免運(yùn)輸過程中吸附的顆粒污染晶圓。

蝕刻/沉積工藝后存儲容器的污染物去除,防止交叉污染。

后道封裝(BEOL)

封裝測試環(huán)節(jié)的老化晶圓盒翻新,延長設(shè)備使用壽命。

存儲卡匣(如FOSB)的定期維護(hù),確保芯片運(yùn)輸潔凈度。

特殊工藝需求

第三代半導(dǎo)體(SiC/GaN)晶圓盒清潔,適應(yīng)高硬度材料特性。

先進(jìn)封裝(如Chiplet、3D NAND)中微小結(jié)構(gòu)晶圓盒的高精度清洗。

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