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第二代碳化硅晶片腐蝕清洗設(shè)備品牌
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設(shè)備采用雙工位設(shè)計，全封閉工作臺和強(qiáng)排風(fēng)系統(tǒng)有效防止腐蝕性堿蒸汽對操作人員的身體傷害。該系統(tǒng)集SiC晶片熱強(qiáng)堿腐蝕、快速清洗，再次超聲清洗和晶片烘干為一體，充分避免了操作人員與腐蝕性強(qiáng)堿溶劑的接觸。整個工藝流程全部自動化控制，操作人員只需完成取放片操作，腐蝕效率高，適合產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用。
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