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VSParticle 納米印刷沉積系統(tǒng)
VSParticle 納米印刷沉積系統(tǒng)

參考價(jià)格

面議

型號(hào)

VSP-P1

品牌

VSParticle

產(chǎn)地

荷蘭

樣本

暫無(wú)
復(fù)納科學(xué)儀器(上海)有限公司

金牌會(huì)員

|

第8年

|

代理商

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核心參數(shù)
  • 品級(jí):

    優(yōu)
  • 制作方法:

    VSP-P1 納米顆粒印刷沉積設(shè)備基于電火花燒蝕技術(shù)產(chǎn)生納米顆粒,同時(shí)搭載印刷沉積技術(shù),可實(shí)現(xiàn)圖案化印刷沉積、電極印刷沉積、傳感器印刷沉積等多功能應(yīng)用。
  • 質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn):

    最大打印區(qū)域:15 x 15 cm
  • 純度:

    涂層厚度:稀疏的團(tuán)族(100 nm)到幾pm
  • 目數(shù):

    打印尺寸精度 10 微米
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VSParticle-P1 納米印刷沉積系統(tǒng)



VSP-P1.png



氣溶膠納米噴印


納米印刷是柔性電子領(lǐng)域重要的區(qū)域性沉積技術(shù), VSP-P1 采用特別的氣溶膠沖壓沉積技術(shù),將原材料通過(guò)火花燒蝕的方式轉(zhuǎn)變成納米級(jí)氣溶膠顆粒,并在真空系統(tǒng)配合下實(shí)現(xiàn)圖案的繪制。該方法避免了傳統(tǒng)噴墨打印需要導(dǎo)電油墨以及后續(xù)熱處理去除油墨的弊端,保證圖案的納米結(jié)構(gòu)較大程度的保留,避免產(chǎn)生氣孔等缺陷。

1.jpg

運(yùn)行原理


氣溶膠顆粒會(huì)通過(guò)火花燒蝕的方式在前端產(chǎn)生,顆粒經(jīng)由惰性氣體帶動(dòng)運(yùn)輸至噴嘴處,經(jīng)過(guò)真空系統(tǒng)作用,腔室的氣壓會(huì)保持在 10mbar 以下,而經(jīng)由噴嘴噴出的氣溶膠會(huì)在基底表面沖壓沉積。而利用 XYZ 軸控制噴嘴的移動(dòng),即可實(shí)現(xiàn)圖案的繪制。


2.jpg


利用該方法,可輕松實(shí)現(xiàn):


1.  金屬,合金,氧化物顆粒的印刷沉積

2.  無(wú)添加劑,無(wú)廢液

3.  一步沉積,設(shè)備模塊化,前端的氣溶膠發(fā)生器可獨(dú)立拆卸工作,進(jìn)行其它方向的納米研究

4.  顆粒初始粒徑可保持在 0-20nm 之間,形成多孔結(jié)構(gòu)


應(yīng)用領(lǐng)域


· 高通量合金催化劑的篩選


3.jpg


利用氣溶膠噴印在多個(gè)通道打印沉積比例不同的合金催化劑,從而快速考查電催化性能。該方法可用于在工業(yè)相關(guān)電流密度下的流體力學(xué)條件下制備和篩選電極材料,可用于確定**催化劑和催化劑制備的穩(wěn)健性。Ni / Fe 的復(fù)合電極被用于進(jìn)行驗(yàn)證,64 個(gè)不同比例的催化陽(yáng)極電極在快速篩選后可得到反應(yīng)電位的變化。


4.jpg


SERS


表面增強(qiáng)拉曼光譜需要精細(xì)的 Au, Ag 等納米結(jié)構(gòu),從而實(shí)現(xiàn)對(duì)低信號(hào)量化學(xué)物質(zhì)的靈敏檢測(cè)。利用氣溶膠噴印技術(shù)在基底表面快速繪制納米圖案,進(jìn)行拉曼光譜檢測(cè)。這種方法避免添加劑對(duì)檢測(cè)的干擾,在較低的溫度處理后便可進(jìn)行后續(xù)檢測(cè)。


5.jpg


6.jpg

納米印刷結(jié)構(gòu)


在對(duì)羅丹明 6G,PMBA,三聚氰胺的檢測(cè)中,標(biāo)準(zhǔn)基片表現(xiàn)出了優(yōu)異的信號(hào)增強(qiáng)性能。


7.jpg

8.jpg

9.jpg


氣體傳感器


金屬氧化物 (MOX) 氣體傳感器通過(guò)半導(dǎo)體金屬氧化物薄膜的電阻變化來(lái)檢測(cè)氣體,但氧化物涂層需要溫和的沉積,故而常用的 PVD 與 CVD 手段均不適用?,F(xiàn)有方法為利用溶膠凝膠法結(jié)合絲網(wǎng)印刷實(shí)現(xiàn)區(qū)域的沉積。利用氣溶膠噴印直寫可以實(shí)現(xiàn)精準(zhǔn)的印刷沉積,避免熱處理。


10.jpg


創(chuàng)新點(diǎn)

VSP-P1 納米印刷沉積設(shè)備采用干法氣溶膠沉積技術(shù),無(wú)需添加化學(xué)劑,可快速沉積合金或多相納米顆粒。

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