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Tripod Polisher 590三腳拋光器
Tripod Polisher 590三腳拋光器

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PELCO® Tripod PolisherTM 590IBM East Fishkill實(shí)驗(yàn)室的研究人員設(shè)計(jì),以準(zhǔn)確地制備預(yù)先指定的微米尺度區(qū)域的透射電鏡和掃描電鏡樣品。對(duì)于TEM樣品,該技術(shù)已成功地用于將離子研磨時(shí)間限制在15分鐘以內(nèi),并且在某些情況下,消除了離子研磨的需要。

盡管這項(xiàng)技術(shù)是為制備半導(dǎo)體橫截面而設(shè)計(jì)的,但它已被用于從陶瓷、復(fù)合材料、金屬和地質(zhì)樣品等不同材料制備平面圖和橫截面樣品。

操作-標(biāo)準(zhǔn)法

PELCO® Tripod PolisherTM 590可制備用于掃描電鏡和透射電鏡橫截面分析的樣品。為此,在PELCO® Tripod PolisherTM 590的帶槽的L形支架上夾放一個(gè)特殊的掃描電鏡樣品座,將樣品置于其上。首先,在15μm粘合金屬的金剛石盤(pán)上進(jìn)行初步研磨,再依次使用30μm0.5μm系列尺寸的金剛石膜進(jìn)行研磨和拋光,*后用二氧化硅懸浮液完成拋光過(guò)程。

在研磨過(guò)程中,通過(guò)后面的兩個(gè)千分尺調(diào)整拋光面。使用倒置顯微鏡進(jìn)行定期檢查,調(diào)整拋光面,直至其與感興趣面平行。此時(shí),可將掃描電鏡樣品座移至離子研磨機(jī)中進(jìn)行快速研磨,以去除細(xì)微的劃痕、拋光碎屑,在掃描電鏡分析前得到樣品表面形貌。掃描電鏡樣品座可直接放入掃描電鏡分析。分析完成后,制作同一區(qū)域的透射電鏡樣品。從掃描電鏡樣品座上取下樣品,貼在單孔TEM柵網(wǎng)上。拆下帶槽的L形支架,將TEM柵網(wǎng)置于拋光機(jī)中心的圓形樣品支架上。使用金剛石研磨膜(Diamond Lapping Film)對(duì)樣品進(jìn)行機(jī)械減薄。在此過(guò)程中,使用倒置顯微鏡定期檢查,并通過(guò)調(diào)節(jié)千分尺使拋光面處于正確位置。樣品*終拋光至1μm或更薄,然后離子研磨15分鐘。

操作-楔形法

快速離子研磨中產(chǎn)生的擇優(yōu)減薄和形貌使不同材料間界面的研究變得困難。可通過(guò)完全消除離子研磨步驟和采用楔形技術(shù)將樣品機(jī)械拋光到電子透明厚度來(lái)較少這些問(wèn)題的發(fā)生。采用這種技術(shù)時(shí),用Pyrex®插件替換帶槽的L型支架中的SEM樣品座,將樣品置于插頭端面上。

在得到感興趣面后,取下樣品并置于Pyrex®插件的底端。調(diào)整兩個(gè)后千分尺,,回撤近樣品的那個(gè)千分尺,以使樣品減薄至楔形。從背側(cè)對(duì)楔形樣品頂端感興趣特征區(qū)減薄,直到感興趣區(qū)邊緣厚約1μm。然后,使用拋光布(如MultiTex Cloth(產(chǎn)品編號(hào)816-12)和硅質(zhì)懸浮液對(duì)樣品進(jìn)行*后的拋光處理,直到可以看到厚度條紋(低于幾千埃)。*后將樣品從Pyrex®插件中取出,置于單孔TEM柵網(wǎng)上進(jìn)行分析。

l適用TEM分析的精細(xì)的橫截面

l快速、可重現(xiàn)地制備TEM樣品

l將離子研磨時(shí)間從數(shù)小時(shí)縮短至數(shù)分鐘。

l由整個(gè)樣品可制備得到大的薄區(qū)。

產(chǎn)品編號(hào)描述
59100 PELCO® Tripod Polisher 590TEM 透射電鏡精密樣品制備
59200 PELCO® Tripod Polisher 590SEM 掃描電鏡精密樣品制備
59300 PELCO® Tripod Polisher 590TS 用于SEM和TEM樣品制備
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