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ETD-650M型磁控濺射儀
是我公司研制開發(fā)的一款經(jīng)濟(jì)實(shí)用的袖珍型高真空磁控濺射設(shè)備，更適合各科研及教育機(jī)構(gòu)實(shí)驗(yàn)室的中試驗(yàn)需求。系統(tǒng)主要由濺射真空室、永磁磁控濺射靶（強(qiáng)/弱磁靶）、光纖旋轉(zhuǎn)臺（定制）、直流電源、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、循環(huán)水系統(tǒng)、膜厚監(jiān)測系統(tǒng)、真空測量、電控系統(tǒng)及安裝機(jī)臺等部分組成。
真空系統(tǒng)：渦輪分子泵，抽速為300L/s 前級機(jī)械泵：抽速為4L/s，帶防返油電磁閥及油污過濾器 真空測量：采用復(fù)合真空計(jì)監(jiān)測真空
ETD-650M magnetron sputtering instrument
It is an economical and practical pocket magnetron sputtering equipment developed by our company， which is more suitable for the needs of laboratories in various scientific research and educational institutions. The system is mainly composed of sputtering vacuum chamber， permanent magnet magnetron sputtering target (strong / weak magnetic target)， fiber optic rotary table (custom)， DC power supply， working gas circuit， pumping system， circulating water system， film thickness monitoring system， vacuum measurement， electronic control system and installation machine and so on.
| 濺射氣體 | 濺射靶材 | 濺射電流 | 極限真空 | 樣品倉尺寸 | 樣品臺尺寸 | 工作電壓 |
| 根據(jù)實(shí)驗(yàn)?zāi)康目商砑託鍤?，氮?dú)獾榷喾N氣體。 | 配有直徑50mm弱磁靶和直徑60的強(qiáng)磁靶。 標(biāo)配靶材為金靶，可配銀靶，銅靶，鉻靶等多種靶材 | 電流 為0-500mA | 優(yōu)于5*10-4Pa | 直徑180mm，高200mm | 樣品臺光纖旋臺（可定制） | 230V， 50HZ |
需要鍍膜的樣品
| 電子束敏感的樣品 | 非導(dǎo)電的樣品 | 新材料 |
| 主要包括生物樣品，塑料樣品等。S EM中的電子束具有較高能量，在與樣品的相互作用過程中，它以熱的形式將部分能量傳遞給樣品。如果樣品是對電子束敏感的材料，那這種相互作用會破壞部分甚至整個(gè)樣品結(jié)構(gòu)。這種情況下，用一種非電子束敏感材料制備的表面鍍層就可以起到保護(hù)層的作用，防止此類損傷； | 由于樣品不導(dǎo)電，其表面帶有“電子陷阱”，這種表面上的電子積累被稱為“充電”。為了消除荷電效應(yīng)，可在樣品表面鍍一層金屬導(dǎo)電層，鍍層作為一個(gè)導(dǎo)電通道，將充電電子從材料表面轉(zhuǎn)移走，消除荷電效應(yīng)。在掃描電鏡成像時(shí)，濺射材料增加信噪比，從而獲得更好的成像質(zhì)量。 | 非導(dǎo)電材料實(shí)驗(yàn)電極制作觀察導(dǎo)電特性 |
暫無數(shù)據(jù)！
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