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一、概述

SE-Mapping 光譜橢偏儀是一款可定制化Mapping繪制化測量光譜橢偏儀，采用行業(yè)前沿創(chuàng)新技術，配置全自動Mapping測量模塊，通過橢偏參數、 透射/反射率等參數的測量，快速實現薄膜全基片膜厚以及光學參數自定義繪制化測量表征分析。

■ 全基片橢偏繪制化測量解決方案；

■ 支持產品設計以及功能模塊定制化，一鍵繪制測量；

■ 配置Mapping模塊，全基片自定義多點定位測量能力；

■ 豐富的數據庫和幾何結構模型庫，保證強大數據分析能力

二、產品特點

■ 采用氘燈和鹵素燈復合光源，光譜覆蓋紫外到近紅外范圍 (193-2500nm)；

■ 高精度旋轉補償器調制、PCRSA配置，實現Psi/Delta光譜數據高速采集；

■ 具備全基片自定義多點自動定位測量能力，提供全面膜厚檢測分析報告；

■ 數百種材料數據庫、多種算法模型庫，涵蓋了目前絕大部分的光電材料；

三、參數規(guī)格

四、產品應用

廣泛應用OLED，LED，光伏，集成電路等工業(yè)應用中，實現大尺寸全基片膜厚、光學常數以及膜厚分布快速測量與表征。