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等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng)CVD

等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng)CVD
  • 品牌：安徽澤攸
  • 產(chǎn)地：安徽
  • 關(guān)注度：921
  • 型號：等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng)CVD
  • 報價：面議
  • 信息完整度：
核心參數(shù)
    產(chǎn)品介紹

      多功能電感耦合等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng)（CVD）是用來制備高純、高性能固體薄膜的主要技術(shù)，主要借助微波或射頻的方法將目標氣體進行電離，促進化學反應在較低的溫度下進行，從而在基片上沉積出所期望的薄膜。

      目前項目團隊自主研發(fā)的CVD設備可在多種襯底上（如金屬、氧化物、半導體表面）直接生長以石墨烯為代表的各類新型二維材料，用于新材料、新器件的研發(fā)。工藝簡單廉價，且具有傳統(tǒng)半導體生長工藝的兼容性。

      等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng)CVD等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng)技術(shù)參數(shù)

      應用案例

        CVD應用——Graphene在任意襯底上的無催化生長

        CVD應用——外延Graphene/BN異質(zhì)結(jié)與摩爾超晶格

        CVD應用——Graphene的各向異性刻蝕技術(shù)發(fā)展

        CVD應用——Graphene的各向異性刻蝕技術(shù)發(fā)展2

        CVD應用——MoS2的原位氧取代摻雜和相變調(diào)控

        CVD應用——MoS2的原位氧取代摻雜和相變調(diào)控2

        CVD應用——外延構(gòu)筑各種MoS2范德華異質(zhì)結(jié)

        CVD應用——二/四英寸連續(xù)單層MoS2 的取向外延生長

        CVD應用——二/四英寸連續(xù)單層MoS2 的取向外延生長2


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      • 等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng)CVD的工作原理介紹？
      • 等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng)CVD的使用方法？
      • 等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng)CVD多少錢一臺？
      • 等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng)CVD使用的注意事項
      • 等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng)CVD的說明書有嗎？
      • 等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng)CVD的操作規(guī)程有嗎？
      • 等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng)CVD的報價含票含運費嗎？
      • 等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng)CVD有現(xiàn)貨嗎？
      • 等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng)CVD包安裝嗎？

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