中國(guó)粉體網(wǎng)訊 光學(xué)掩模板，又稱光掩模板、掩模板、掩膜版、光掩膜、光刻掩膜版、光罩等，在薄膜、塑料或玻璃基體材料上制作各種功能圖形并精確定位，以便用于光致抗蝕劑涂層選擇性曝光的一種結(jié)構(gòu)，是微電子制造中光刻工藝所使用的圖形母版。
掩模板：半導(dǎo)體生產(chǎn)制造的關(guān)鍵材料
光掩模板應(yīng)用十分廣泛，在涉及光刻工藝的領(lǐng)域都需要使用光掩模板，主要用于集成電路、平板顯示器、印刷電路板、微機(jī)電系統(tǒng)等領(lǐng)域。近年來(lái)，半導(dǎo)體技術(shù)的集成化發(fā)展迅速，制造半導(dǎo)體器件的光刻法工藝得到提升，對(duì)半導(dǎo)體器件的材料精度要求也越來(lái)越高。光掩模技術(shù)作為半導(dǎo)體技術(shù)中的重要組成部分，其重要性也越發(fā)凸顯。
按照基板材料分，光掩�；蹇煞譃橥该鳂渲搴屯该鞑ＡЩ澹噍^而言，玻璃基板更為常用，光掩模玻璃基板根據(jù)玻璃組分，分為合成石英掩�；濉⑴鸸璨Ａа谀；搴吞K打玻璃（鈉鈣玻璃）掩模基板等。石英掩�；迨且�高純石英玻璃為基材，具有高透過(guò)率、高平坦度、低膨脹系數(shù)等優(yōu)點(diǎn)，通常應(yīng)用于高精度掩膜版產(chǎn)品；蘇打掩�；逡蕴K打玻璃為基材，相比石英玻璃具有更高的膨脹系數(shù)、更低的平坦度，通常應(yīng)用于中低精度掩膜版產(chǎn)品；硼硅玻璃光掩�；澹侵冈谂鸸璨ＡгA(chǔ)上，經(jīng)過(guò)加工后制作硼硅玻璃空白掩�；�。
光掩�；宓墓に嚵鞒讨饕–AM圖檔處理、光阻涂布、激光光刻、顯影、蝕刻、脫膜、清洗、宏觀檢查、自動(dòng)光學(xué)檢查、精度測(cè)量、缺陷處理、貼光學(xué)膜等環(huán)節(jié)。
掩模板產(chǎn)業(yè)發(fā)展概況
目前，半導(dǎo)體掩膜版圖形尺寸及精度隨著半導(dǎo)體技術(shù)節(jié)點(diǎn)的演化而逐步提升，掩膜版精度的提升，主要表現(xiàn)為對(duì)基板材料和生產(chǎn)工藝的進(jìn)一步升級(jí)。在基板材料上，石英基板與蘇打基板相比，具有高透過(guò)率、高平坦度、低膨脹系數(shù)等優(yōu)點(diǎn)，通常應(yīng)用于對(duì)產(chǎn)品圖形精度要求較高的行業(yè)，因此基板材料逐漸由蘇打基板轉(zhuǎn)為石英基板。生產(chǎn)工藝方面，隨著集成電路技術(shù)節(jié)點(diǎn)推動(dòng)，對(duì)于掩膜版CD精度、TP精度、套合精度控制、缺陷管控等環(huán)節(jié)提出了更高的要求。
我國(guó)半導(dǎo)體制造業(yè)發(fā)展領(lǐng)先全球，掩模板市場(chǎng)也保持較高的速度增長(zhǎng)。掩模版是我國(guó)集成電路等半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的重要環(huán)節(jié)，在國(guó)家產(chǎn)業(yè)、科技、金融、財(cái)稅等政策的支持下，近幾年我國(guó)產(chǎn)業(yè)發(fā)展較快，但仍有較大的發(fā)展空間。半導(dǎo)體掩膜版技術(shù)壁壘高，工藝難度大，長(zhǎng)期被福尼克斯等國(guó)外龍頭企業(yè)所壟斷。國(guó)內(nèi)有數(shù)家企業(yè)有能力生產(chǎn)，但制備技術(shù)和加工技術(shù)方面差距較大，產(chǎn)品應(yīng)用也多是中低端市場(chǎng)，不能規(guī)模化、持續(xù)穩(wěn)定提供高端產(chǎn)品。
此外，掩模版制版技術(shù)上的差距主要體現(xiàn)在關(guān)鍵尺寸（CD）、缺陷控制、光學(xué)鄰近效應(yīng)較正（OPC）、相位角、傳輸率等性能參數(shù)上。除制版工藝技術(shù)差距外，制版所用設(shè)備和原材料也需要大量進(jìn)口，除無(wú)塵物資以及部分制版用工藝化學(xué)品能夠國(guó)產(chǎn)外，以電子束曝光機(jī)為主的制版設(shè)備，以高純石英板和保護(hù)膜為主的制版原材料均依賴進(jìn)口，裝載盒等包裝材料也依賴進(jìn)口。
總之，光刻掩膜技術(shù)是決定半導(dǎo)體產(chǎn)品技術(shù)發(fā)展的主要?jiǎng)恿�，我�?guó)必須不斷研究高制程掩模基板加工技術(shù)與裝備，突破技術(shù)門檻，打破境外廠商對(duì)掩膜版的技術(shù)壟斷，為半導(dǎo)體等行業(yè)帶來(lái)關(guān)鍵材料的配套支持。
2025年3月27日，由中國(guó)粉體網(wǎng)主辦的“2025第三屆集成電路及光伏用高純石英材料產(chǎn)業(yè)發(fā)展大會(huì)”將在江蘇東海召開，屆時(shí)來(lái)自中國(guó)科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所高端光電裝備部的徐學(xué)科部長(zhǎng)，將做題為《高制程掩模基板加工技術(shù)與裝備》的報(bào)告。
參考來(lái)源：
劉志海.我國(guó)光掩模玻璃基板的發(fā)展現(xiàn)狀及趨勢(shì)
曹可慰.掩模版標(biāo)準(zhǔn)現(xiàn)狀與發(fā)展方向
陳婭麗.光掩膜石英玻璃基板的制造工藝概述
路維光電招股說(shuō)明書
（中國(guó)粉體網(wǎng)編輯整理/初末）
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