推薦氧化硅拋光材料的制備、改性及應(yīng)用

中國(guó)粉體網(wǎng)訊 氧化硅因具有硬度適中、分散性好、穩(wěn)定性好、易儲(chǔ)存等優(yōu)點(diǎn)成為CMP磨料的首選。在精拋過(guò)程中，大尺寸顆粒的氧化硅磨料容易在硅片上產(chǎn)生劃痕和拋光霧等缺陷，而粒徑尺寸小（＜50nm）的氧化硅磨料可以實(shí)現(xiàn)硅片的全局平坦化[更多]