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ASPIPER 3000

非線性光學(xué)晶圓缺陷檢測(cè)系統(tǒng)

ASPIRER 3000非線性光學(xué)晶圓缺陷檢測(cè)系統(tǒng)可以提供晶圓級(jí)別的缺陷檢測(cè)，對(duì)界面及膜層質(zhì)量進(jìn)行綜合測(cè)試分析，提升各類制程的良率。獨(dú)有的非線性光學(xué)技術(shù)配合自主研發(fā)的檢測(cè)系統(tǒng)可提供超高的檢測(cè)靈敏度，并對(duì)有、無(wú)圖案晶圓均有良好的適用性。ASPIRER 3000機(jī)臺(tái)可滿足客戶在研發(fā)和量產(chǎn)中對(duì)晶圓質(zhì)量的快速、無(wú)損、精準(zhǔn)檢測(cè)需求。

產(chǎn)品特點(diǎn)

非接觸、無(wú)損傷

快速檢測(cè)

在線檢測(cè)

軟件操作便捷

Wafer Map等多樣化表征手段

主要應(yīng)用

各類成膜工藝質(zhì)量的監(jiān)控

各類生產(chǎn)工藝機(jī)臺(tái)穩(wěn)定性的監(jiān)控

刻蝕等工藝對(duì)晶圓損傷的檢測(cè)與監(jiān)控

離子注入及退火工藝的質(zhì)量監(jiān)控

清洗等工藝質(zhì)量的監(jiān)控