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高低溫細(xì)絲爐體，硼擴(kuò)磷擴(kuò)工業(yè)爐主要用作半導(dǎo)體、功率器件、集成電路等行業(yè)中管式熱壁產(chǎn)品的加熱裝置?？膳c美國(guó)TEMPRESS、美國(guó)TYAN、美國(guó)THERMCO、荷蘭ASM、英國(guó)BTU、日本TEL等國(guó)外多種型號(hào)擴(kuò)散爐配套（替代進(jìn)口），采用的加工工藝，選用進(jìn)口材料，制作而成?？捎糜?-8英寸硅片的擴(kuò)散工藝。
爐體為擴(kuò)散爐提供熱能源。高溫細(xì)絲爐體低溫，磷擴(kuò)硼擴(kuò)工業(yè)爐

詳細(xì)介紹

高低溫細(xì)絲爐體，硼擴(kuò)磷擴(kuò)工業(yè)爐主要用作半導(dǎo)體、功率器件、集成電路等行業(yè)中管式熱壁產(chǎn)品的加熱裝置?？膳c美國(guó)TEMPRESS、美國(guó)TYAN、美國(guó)THERMCO、荷蘭ASM、英國(guó)BTU、日本TEL等國(guó)外多種型號(hào)擴(kuò)散爐配套（替代進(jìn)口），采用guo外xian進(jìn)的加工工藝，選用進(jìn)口材料，制作而成?？捎糜?-8英寸硅片的擴(kuò)散工藝。
爐體為擴(kuò)散爐提供熱能源
       高溫細(xì)絲爐體低溫，磷擴(kuò)硼擴(kuò)工業(yè)爐擴(kuò)散爐主要用途是在高溫條件下對(duì)半導(dǎo)體晶圓進(jìn)行摻雜，即將元素磷、硼擴(kuò)散入硅片，從而改變和控制半導(dǎo)體內(nèi)雜質(zhì)的類(lèi)型、濃度和分布，以便建立起不同的電特性區(qū)域。
      同時(shí)還會(huì)在硅片表面生長(zhǎng)一層二氧化硅膜，起到保護(hù)硅晶體的作用。而高溫細(xì)絲爐體低溫，磷擴(kuò)硼擴(kuò)工業(yè)爐爐體作為擴(kuò)散爐溫區(qū)控制核心部件，在爐體運(yùn)行中起到至關(guān)重要的作用。

高低溫細(xì)絲爐體，硼擴(kuò)磷擴(kuò)工業(yè)爐主要用作半導(dǎo)體、功率器件、集成電路等行業(yè)中管式熱壁產(chǎn)品的加熱裝置?？膳c美國(guó)TEMPRESS、美國(guó)TYAN、美國(guó)THERMCO、荷蘭ASM、英國(guó)BTU、日本TEL等國(guó)外多種型號(hào)擴(kuò)散爐配套（替代進(jìn)口），采用guo外xian進(jìn)的加工工藝，選用進(jìn)口材料，制作而成。可用于2-8英寸硅片的擴(kuò)散工藝。
爐體為擴(kuò)散爐提供熱能源
       高溫細(xì)絲爐體低溫，磷擴(kuò)硼擴(kuò)工業(yè)爐擴(kuò)散爐主要用途是在高溫條件下對(duì)半導(dǎo)體晶圓進(jìn)行摻雜，即將元素磷、硼擴(kuò)散入硅片，從而改變和控制半導(dǎo)體內(nèi)雜質(zhì)的類(lèi)型、濃度和分布，以便建立起不同的電特性區(qū)域。
      同時(shí)還會(huì)在硅片表面生長(zhǎng)一層二氧化硅膜，起到保護(hù)硅晶體的作用。而高溫細(xì)絲爐體低溫，磷擴(kuò)硼擴(kuò)工業(yè)爐爐體作為擴(kuò)散爐溫區(qū)控制核心部件，在爐體運(yùn)行中起到至關(guān)重要的作用。