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實驗型卷繞彼膜設備采用磁控濺射及陰極電弧相結合的被膜技術，既滿是了對模層致密性要求，又滿足了高離化率的要求;立式結構，工件卷繞系統垂直安裝在真空室內;多室門設計，明極安裝在們門上，可裝六套明極源或高子源，開門即可對靶進行維護或更換;設備可一次性進行工件表面處理及鍍制多層膜，實現多層膜沉積。適用多種金屬或化合物鍍膜材料。設備具有外形美觀、結構緊湊、占地面積小、自動化程度高、操作簡單靈活、性能穩(wěn)定、易維護的特點，尤其適用于實驗室高校使用，客戶可根據自身不同需求選配。
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