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PECVD連續(xù)式磁控濺射鍍膜設(shè)備生產(chǎn)線：是采用多個(gè)真空腔室組成的連續(xù)鍍膜成產(chǎn)線模式，各階段的真空腔室可按要求定制定數(shù)。制備在低壓和升溫的情況下，等離子子發(fā)生器直接裝在鍍膜板中間發(fā)生反應(yīng)。采用射頻PECVD化學(xué)氣相沉積技術(shù)，沉積速率快，成膜質(zhì)量好，可鍍膜氧化物薄膜、氮化物薄膜、無(wú)定型硅薄膜和碳化硅薄膜等。

主要特點(diǎn)

1、設(shè)備可由：裝載工作臺(tái)+前處理室+離子束清洗室+預(yù)鍍膜室（緩沖室）+磁控濺射鍍膜室+平移室+全自動(dòng)控制系統(tǒng)等組成；全SUS304不銹鋼材質(zhì)制成。隱藏式雙層冷卻水套設(shè)計(jì)；

2、每一階段的進(jìn)程都可以設(shè)計(jì)成單個(gè)真空腔室或多個(gè)真空腔室；

3、傳動(dòng)系統(tǒng)：流軸傳動(dòng)，變頻可調(diào)，感應(yīng)式室門(mén)開(kāi)啟系統(tǒng)；

4、每一階段的工序進(jìn)程之間腔室都采用先進(jìn)的插板閥進(jìn)行腔室隔斷，可以實(shí)現(xiàn)有效隔斷，穩(wěn)定工藝氣體；

5、裝載工作臺(tái)在裝載的同時(shí)設(shè)備生產(chǎn)線所有腔室同步進(jìn)行抽真空，以達(dá)到工作氣壓要求狀態(tài)。極大縮短了前處理工作時(shí)間；

6、生產(chǎn)線采用了均勻進(jìn)氣管結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，氣流注入均勻平緩；

7、電氣控制：生產(chǎn)線采用PLC全過(guò)程控制，快速的生產(chǎn)節(jié)拍，配備工業(yè)計(jì)算機(jī)顯示系統(tǒng)，控制屏采用分屏監(jiān)控模式以達(dá)到每腔室每階段的實(shí)時(shí)數(shù)據(jù)記錄分析；

8、人機(jī)對(duì)話：控制系統(tǒng)能實(shí)現(xiàn)人、機(jī)對(duì)話，及時(shí)對(duì)生產(chǎn)過(guò)程進(jìn)行必要干預(yù)。運(yùn)行過(guò)程有報(bào)警提示和故障顯示，故障顯示能提示操作人員正確的操作和排故。

技術(shù)優(yōu)勢(shì)

1、實(shí)現(xiàn)薄膜沉積工藝的低溫化。工藝控制靈活、安全、便捷，在工藝程序上可操作性更大；在溫控、功率和氣壓控制方面都是全自動(dòng)控制；

2、全自動(dòng)控制系統(tǒng)更安全、便捷；節(jié)省能源，降低成本；

3、提高產(chǎn)能，延長(zhǎng)基片壽命；

4、沉積速率快，成膜質(zhì)量好；

5、安全性能更好，穩(wěn)定性高，工藝穩(wěn)定性好，膜層均勻性更好；

6、連續(xù)式磁控濺射鍍膜設(shè)備生產(chǎn)線主要用于表面鍍制高質(zhì)量、高性能金屬膜、電磁屏蔽膜、反應(yīng)膜、復(fù)合膜、透明導(dǎo)電膜等膜層；

7、設(shè)備采用全自動(dòng)控制系統(tǒng)，能控制工藝溫度、膜層厚度，能對(duì)微孔內(nèi)壁鍍膜；

8、設(shè)備對(duì)于環(huán)氧樹(shù)脂等電路板基體及其導(dǎo)通孔上沉積金屬膜膜層可進(jìn)行連續(xù)式生產(chǎn)線鍍膜。