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主要特點(diǎn)

1、 由9個(gè)多弧離子鍍膜源+2個(gè)陽極層離子束清洗源+2個(gè)磁控濺射弧源融合成鍍膜工藝系統(tǒng)；

2、 每個(gè)磁控濺射弧源的靶材可以根據(jù)需求應(yīng)用不同的靶材材質(zhì)；

3、 腔室采用優(yōu)質(zhì)SUS304不銹鋼機(jī)身，隱藏式雙層冷卻水冷設(shè)計(jì)；

4、 合理配備多套新研制的離子弧源，有效保障弧源濺射的穩(wěn)定性與均勻性；

5、 采用多路進(jìn)氣系統(tǒng)，精準(zhǔn)控制氣體流量，滿足多種化合物膜層需求。

技術(shù)優(yōu)勢(shì)

1、 致密、粘附性好；重復(fù)性高、均勻性好；

2、 高穩(wěn)定性；高功率；維護(hù)方便；有效水冷設(shè)計(jì)，靶材可以連續(xù)24小時(shí)工作；

3、 腔體接口通用尺寸，互換性強(qiáng)，優(yōu)化升級(jí)方便；

4、 磁控濺射源與陰極弧源都采用獨(dú)特的磁場(chǎng)設(shè)計(jì)和布?xì)夥绞?，極大地提高了有效鍍膜空間和膜層均勻性；

5、 實(shí)時(shí)記錄歷史數(shù)據(jù)和分析數(shù)據(jù)曲線，對(duì)品質(zhì)管理管控和工藝開發(fā)有明顯幫助；

6、 全自動(dòng)控制，一鍵式操作，友好的人機(jī)界面，實(shí)時(shí)記錄工藝數(shù)據(jù)，利于質(zhì)量管控、疑難分析、開發(fā)新工藝等；

7、 模塊化工藝配方，靈活設(shè)定各級(jí)配方，一鍵式操作即可完成多層工藝配方。