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產(chǎn)品描述 全自動程序控制，彩色觸摸屏界面，操作簡潔，可鍍金（Au)、鉑(Pt)等不氧化貴金屬，也可鍍銥(Ir)、鉻(Cr)、鋁(Al等多種精細(xì)顆粒的易氧化膜材。 應(yīng)用范圍 特別適合場發(fā)射電鏡、透射電鏡制樣及制作無定形碳覆形膜/TEM柵網(wǎng)支持膜，也可為薄膜應(yīng)用等材料領(lǐng)域提供理想的鍍膜平臺。 產(chǎn)品型號 Q150T S（高分辨率磁控離子濺射鍍膜儀，可選輝光放電附件）、Q150T E（高真空熱蒸發(fā)鍍膜儀，用于蒸碳和可選蒸鍍金屬）和Q150T ES（集成了離子濺射和蒸鍍兩種沉積功能的鍍膜儀）。 |
名稱 | 規(guī)格 |
工作腔室 | 150mm內(nèi)徑 x 127mm高 |
用戶界面 | 觸摸屏全圖像用戶界面 |
樣品臺 | 標(biāo)配旋轉(zhuǎn)臺 |
真空系統(tǒng) | 渦輪分子泵：帶有空氣冷卻的渦輪分子泵；旋轉(zhuǎn)機(jī)械泵：雙級旋轉(zhuǎn)機(jī)械泵 |
濺射電流 | 0-150mA；可預(yù)設(shè)膜厚（需FTM選項(xiàng)）或使用內(nèi)置定時(shí)器 |
濺射時(shí)間 | *長60分鐘 |
碳蒸發(fā) | 穩(wěn)定的無紋波直流電源控制的脈沖蒸發(fā)，確保源自碳棒或碳絲的可重復(fù)蒸碳。 |
尺寸和重量 | 儀器機(jī)箱：585mm寬x 470mm長 x 410mm高 (總高: 650mm) 重量：33.4Kg |
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