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NIE-3500 (M) IBE離子束刻蝕
NIE-3500 (M) IBE離子束刻蝕

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產(chǎn)地

美國

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那諾-馬斯特中國有限公司

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IBE離子束刻蝕

NIE-3500(M)IBE離子束刻蝕產(chǎn)品概述:該系統(tǒng)為計算機全自動實現(xiàn)工藝控制的緊湊型獨立的立柜式離子束刻蝕系統(tǒng),具有結(jié)構(gòu)緊湊、功能強大、自動化程度高、模塊化設(shè)計易于維護(hù)、低成本的優(yōu)勢。所有核心組件均為國際知名品牌。

NIE-3500(M)IBE離子束刻蝕產(chǎn)品特點:

  • 低成本

  • 離子束:高達(dá)2KV/10mA

  • 離子電流密度100-360uA/cm2

  • 離子束直徑:4",5",6"

  • 兼容反應(yīng)及非反應(yīng)氣體(Ar, O2, CF4,Cl2)

  • 極限真空5x10-7Torr

  • 260l/s渦輪分子泵,串接500 l/min干泵

  • 14"不銹鋼或鋁質(zhì)腔體

  • 水冷旋轉(zhuǎn)/傾斜樣品臺(NIE-3500)

  • 自動上下載片(NIE-3500)

  • 基于LabView軟件的PC計算機全自動控制

  • 占地面積30"x30"

NIE-3500(M)IBE離子束刻蝕產(chǎn)品應(yīng)用:

  • 表面清洗

  • 表面處理

  • 離子銑

  • 帶活性氣體的離子束刻蝕

  • 光柵刻蝕

  • SiO2,Si和金屬的深槽刻蝕

NIE-3500(M)IBE離子束刻蝕Features:

  • Low Cost

  • Ion Beam: Up to 2KV/10mA

  • Ion Current Density 100-360 μA/cm2

  • Ion Beam Size: 4”, 5”, 6”

  • Compatible with Reactive and Non-Reactive Gases (Ar, O2, CF4,Cl2)

  • Base Pressure 5x10-7 Torr

  • 260 l/sec Corrosive Turbo Pump with 500 l/min Dry Scroll Pump

  • 14” SS or Al Chambers

  • Water Cooled Rotating/Tilted Platen (NIE-3500)

  • Auto Load and Unload (NIE-3500)

  • PC Controlled with LabVIEW Software

  • Footprint 30”x30”

NIE-3500(M)IBE離子束刻蝕Applications:

  • Surface Cleaning

  • Surface Treatment

  • Ion Beam Milling

  • Ion Beam Etching with Reactive Gases:

    Grating

    Deep Trenches on SiO2, Si and metals

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