IBE離子束刻蝕

NIE-3500（M）IBE離子束刻蝕產(chǎn)品概述：該系統(tǒng)為計算機全自動實現(xiàn)工藝控制的緊湊型獨立的立柜式離子束刻蝕系統(tǒng)，具有結構緊湊、功能強大、自動化程度高、模塊化設計易于維護、低成本的優(yōu)勢。所有核心組件均為國際知名品牌。

NIE-3500（M）IBE離子束刻蝕產(chǎn)品特點：

• 低成本

• 離子束：高達2KV/10mA

• 離子電流密度100-360uA/cm2

• 離子束直徑：4"，5"，6"

• 兼容反應及非反應氣體(Ar， O2， CF4，Cl2)

• 極限真空5x10-7Torr

• 260l/s渦輪分子泵，串接500 l/min干泵

• 14"不銹鋼或鋁質(zhì)腔體

• 水冷旋轉(zhuǎn)/傾斜樣品臺(NIE-3500)

• 自動上下載片（NIE-3500）

• 基于LabView軟件的PC計算機全自動控制

• 占地面積30"x30"

NIE-3500（M）IBE離子束刻蝕產(chǎn)品應用：

• 表面清洗

• 表面處理

• 離子銑

• 帶活性氣體的離子束刻蝕

• 光柵刻蝕

• SiO2，Si和金屬的深槽刻蝕

NIE-3500（M）IBE離子束刻蝕Features：

• Low Cost

• Ion Beam: Up to 2KV/10mA

• Ion Current Density 100-360 μA/cm2

• Ion Beam Size: 4”， 5”， 6”

• Compatible with Reactive and Non-Reactive Gases (Ar， O2， CF4，Cl2)

• Base Pressure 5x10-7 Torr

• 260 l/sec Corrosive Turbo Pump with 500 l/min Dry Scroll Pump

• 14” SS or Al Chambers

• Water Cooled Rotating/Tilted Platen (NIE-3500)

• Auto Load and Unload (NIE-3500)

• PC Controlled with LabVIEW Software

• Footprint 30”x30”

NIE-3500（M）IBE離子束刻蝕Applications：

• Surface Cleaning

• Surface Treatment

• Ion Beam Milling

• Ion Beam Etching with Reactive Gases:

  Grating

  Deep Trenches on SiO2， Si and metals