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以往的橢偏儀是單點測試，因此要取得整面膜厚均勻性數(shù)據(jù)是需要N個小時的工作，而且*小的測量分辨率就是激光光斑大小，也就是說，無法取得微小區(qū)域的膜厚分布數(shù)據(jù)。

ME-210是采用獨自開發(fā)的微小偏光陣列片來克服上述兩大問題的設(shè)備。

ME-210能做的就是：

1. 能以快速取得**12inch基板上的膜厚分布

2. 能以高分辨率取得微小區(qū)域的膜厚分布（設(shè)備**分辨率為5.5um*5.5um）

3. 設(shè)備軟件具有模擬功能，因此能比對模擬值與實際值來評估成膜工藝

4. 透明基板的膜厚測量

技術(shù)參數(shù)：

光源--typ，636nm，Class2

設(shè)備**分辨率--5.5*5.5um

入射角--70°

測量再現(xiàn)性--膜厚0.1nm、折射率0.001

設(shè)備*塊測量速度--5，000個點/min

載物臺--標準φ8inch、選配φ12inch