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用途：HemiView數(shù)字植物冠層分析系統(tǒng)通過處理影像數(shù)據(jù)文件來獲取與冠層結(jié)構(gòu)有關(guān)的，例如葉面積指數(shù)、光照間隙及間隙分布狀況。通過分析輻射數(shù)據(jù)的相關(guān)信息，能夠測算出冠層截獲的PAR以及冠層下方的輻射水平。其軟件可以計(jì)算輻射指標(biāo)、冠層指標(biāo)、測量地點(diǎn)的光線覆蓋狀況及直射與漫射光的分布等。

原理：使用180度魚眼鏡頭和高清晰度數(shù)碼相機(jī)從植物冠層下方或森林地面向上取像， 再將數(shù)碼相機(jī)的高清晰度影像載入軟件，進(jìn)行分析處理。

技術(shù)規(guī)格：

輸出參數(shù)：

·天空幾何：質(zhì)心，立體角和像素計(jì)算用于每個天空扇區(qū)；

·間隙粒級：比例的可見天空扇區(qū)；

·葉面積指數(shù)：天空扇區(qū)或全部數(shù)值；

·太陽輻射：直射和散射，冠層上方和下方，能量或質(zhì)量單位；

·位置因數(shù)：直接，間接（散射），全部；

·時(shí)間序列和Sunflecks：可查看指定日期的日盤（半陰影作用）和太陽輻射，用戶自定義的采樣間隔時(shí)間或sunfleck順序

·可選余弦修正：可用任何方位的截取表面；

·全部數(shù)值：大部分輸出能將天空扇區(qū)表格化，集合到單個全天空或年數(shù)值中。

特點(diǎn)：

·交互式圖示定位工具：記錄的圖像半球縱坐標(biāo)系統(tǒng)。補(bǔ)償磁場偏差；

·支持圖像分類：強(qiáng)度區(qū)分界限和干擾像素。圖像按照實(shí)時(shí)更新分類；

·圖像可多重和拆分查看：分類和色彩/灰色等比率查看，或?qū)⒄鶊D像拆分開瀏覽；

·圖像底片：圖像可轉(zhuǎn)換為底片模式進(jìn)行查看和分析；

·可給不同的天空區(qū)域定義號碼：天頂角和方位角定義范圍；

·單個樹的葉面積：直接可通過HemiView輸出單個樹的LAI；

·分析局部圖像：可以將圖像中不需要參與分析的部分排除；

·地點(diǎn)，鏡頭和太陽模型的參數(shù)：用戶可設(shè)定地點(diǎn)，鏡頭和太陽模式應(yīng)用到任何一個圖像中，方便從列表中選擇；

·定義鏡頭的特點(diǎn)：鏡頭方程是當(dāng)用戶使用了當(dāng)前鏡頭和老款類型提供的ΔT；

·輸出：分析結(jié)果可輸出為Excel兼容表格格式或文本格式；

·自定義輸出參數(shù)：用戶可根據(jù)不同的圖像定義不同的輸出參數(shù)。

時(shí)間序列計(jì)算光照示例圖

產(chǎn)地：英國