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CHIP-NOVA掃描電鏡原位程序升溫反應(yīng)系統(tǒng)
CHIP-NOVA掃描電鏡原位程序升溫反應(yīng)系統(tǒng)

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原位程序升溫原位反應(yīng)系統(tǒng)是在標(biāo)準(zhǔn)樣品臺(tái)基礎(chǔ)上搭建四電極反饋控溫的加熱模塊,在掃描電鏡中實(shí)

現(xiàn)樣品的氣氛、液氛環(huán)境及固體樣品高分辨成像和精準(zhǔn)、均勻、安全控溫,溫度精度優(yōu)于 ± 0.1K,**溫度1000℃。通過(guò)精確的熱場(chǎng)模擬及獨(dú)特的芯片設(shè)計(jì),實(shí)現(xiàn)無(wú)漂移加熱過(guò)程,可在加熱升溫過(guò)程中實(shí)現(xiàn)實(shí)時(shí)觀測(cè)成像。樣品臺(tái)上的原位芯片采用特殊的組裝和密封方式與電鏡的真空阻隔,避免電鏡受到污染和損壞。

系統(tǒng)規(guī)格

溫度范圍RT~1000
適用樣品靜態(tài)&流體氣液、固體
窗口膜厚25nm, 50nm
液體池厚度200~2000nm
芯片管路一進(jìn)一出
溫度精度±0.1K
加熱均勻性≥99.5%
加熱電極數(shù)4
EDS/WDS
EBSD/SE
漂移率<0.5nm/min
適用電鏡ZEISS, FEI, JEOL, Hitachi, Others

獨(dú)特優(yōu)勢(shì)

超高分辨率

a.超薄氮化硅膜(25-50nm)

b.分辨率優(yōu)于10nm

精確度、靈敏度高

a.四電極形成反饋控制系統(tǒng),控溫準(zhǔn)

b.觀測(cè)區(qū)域全覆蓋,升溫快且均勻

穩(wěn)定性好

a.科學(xué)設(shè)計(jì),漂移率*小化

b.樣品臺(tái)與芯片匹配良好,芯片不漂移

應(yīng)用領(lǐng)域

氣體環(huán)境加熱

熱催化

水汽重整

石油裂解

煤制油

合成氨

液體環(huán)境加熱

納米催化劑合成

溫致反應(yīng)過(guò)程

溶劑熱過(guò)程

固體直接加熱

EBSD原位分析

金屬材料

石油地質(zhì)巖石礦物

化工高分子材料

新能源電池材料

半導(dǎo)體

售后服務(wù)

1、設(shè)備運(yùn)抵現(xiàn)場(chǎng),我方技術(shù)人員同時(shí)到達(dá),一同開(kāi)箱檢驗(yàn),并提供有關(guān)設(shè)備的搬運(yùn)、倉(cāng)儲(chǔ)、注意事項(xiàng)的技術(shù)咨詢服務(wù);

2、設(shè)備進(jìn)行安裝調(diào)試階段,我方技術(shù)人員到現(xiàn)場(chǎng)協(xié)助安裝調(diào)試,及時(shí)處理安裝過(guò)程中所遇到的問(wèn)題,確保系統(tǒng)成功使用;

3、合同要求提供產(chǎn)品使用、維護(hù)說(shuō)明書(shū),設(shè)備的原理圖、接線圖、施工圖等技術(shù)資料及備品。建立售后跟蹤,及時(shí)了解設(shè)備運(yùn)行情況、接受用戶的報(bào)修、投訴、以便及時(shí)安排技術(shù)人員解答或趕赴現(xiàn)場(chǎng);

4、加強(qiáng)與用戶的聯(lián)系,重視用戶的意見(jiàn),制定各用戶的質(zhì)量跟蹤信息卡制度,健全用戶檔案,并且對(duì)產(chǎn)品進(jìn)行回訪,了解設(shè)備的運(yùn)行情況,以確保用戶長(zhǎng)期安全可靠地使用我公司的設(shè)備。

5、公司儲(chǔ)存充足的零配件,隨時(shí)滿足客戶單位對(duì)備品備件的要求。

創(chuàng)新點(diǎn)

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用戶評(píng)論

產(chǎn)品質(zhì)量

10分

售后服務(wù)

10分

易用性

10分

性價(jià)比

10分
評(píng)論內(nèi)容
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