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2015年6月24日，"CPhI世界制藥原料中國展"將迎來十五周年華誕，攜手"第十屆P-MEC世界制藥機械、包裝設備與材料中國展"，于上海浦東新國際博覽中心盛大開幕。會議為期三天，囊括制藥原料、原輔料與制劑、精細化工與中間體、天然提取物、合同定制、生物制藥、原料藥機械、制劑機械、包裝機械、包裝材料、實驗 室儀器、環(huán)保與潔凈共12大生產鏈，CPHI擁有強大的品牌號召力，將會吸引全國各地的專業(yè)參觀商，引領全球行業(yè)新風，點燃中國制藥夢想。

    大昌華嘉作為參展商將攜手Rudolph，Microtrac，Elementar，Novasina，Desaga等品牌明星產品亮相本次會展，DKSH展位號N1P08，誠邀各位蒞臨參觀。

      美國Microtrac公司
      S3500 激光粒度分析儀

儀器簡介：
美國Microtrac公司的S3500系列激光粒度分析儀，原理上采用經典靜態(tài)光散射技術和全程米氏理論處理，利用現(xiàn)代模塊式設計理念，使用獲得專利的三激光光源技術，配備超大角度雙鏡頭檢測系統(tǒng)，以對數(shù)方式排列151個高靈敏度檢測單元，無需掃描，平行通道實時接受散射光信息，提供準確可靠的測量信息。多種分散方式可選，干法與濕法測量之間的轉換，系統(tǒng)自動識別，方便快捷。S3500系列儀器完全符合ISO 13320-1粒度分析－激光衍射方法的技術標準及21 CFR PART 11 安全要求，并被榮幸地指定為NIST標準物質認證儀器。

         Nanotrac Wave 納米粒度儀

儀器簡介：
納米粒度測量——最新動態(tài)光背散射技術
主要技術特點：
?     采用最新的動態(tài)光散射技術，引入能普概念代替?zhèn)鹘y(tǒng)光子相關光譜法
?     專利的異相多譜勒頻移技術，較之傳統(tǒng)的方法，獲得光信號強度高出幾個數(shù)量級，提高分析結果的可靠性。
?     專利的可控參比方法（CRM），能精細分析多譜勒頻移產生的能譜，確保分析的靈敏度。
?     超短的顆粒在懸浮液中的散射光程設計，減少了多重散射現(xiàn)象的干擾，保證高濃度溶液中納米顆粒測試的準確性。
?     專利的快速傅利葉變換算法（FFT，F(xiàn)ast Fourier Transform Algorithm Method）,迅速處理檢測系統(tǒng)獲得的能譜，縮短分析時間。
?     消除多種空間位阻對散射光信號的干擾，諸如光路中不同光學元器件間傳輸?shù)膿p失，樣品池位置不同帶來的誤差，比色皿器壁的折射與污染，分散介質的影響，多重散射的衰減等，提高靈敏度

         PartAn 3D 動態(tài)顆粒圖像分析儀

儀器簡介：
PartAn 3D獨一無二的分析技術，除了可以記錄2D分析具有的顆粒大小和形狀參數(shù)外，還可以記錄顆粒度信息。并且只需要一次運行即可完成顆粒的追蹤功能。
多于30種的形態(tài)參數(shù)
測量范圍：15um –35mm（依賴于鏡頭的選擇）
相機系統(tǒng)：至少100幅/秒，最高可達500幅/秒，1400ⅹ1024像素
光源：LED頻閃光源
分析時間：1-5分鐘（依賴于具體樣品應用）
國際標準：符合ISO 13322-2 和 ISO9276-6 標準