中國粉體網(wǎng)訊  6月8日，康達新材披露接待調(diào)研公告，公司于6月6日接待國泰海通證券等19家機構(gòu)調(diào)研。

對于公司研發(fā)的氧化鋁靶材，康達新材表示：“氧化鋁靶材可應(yīng)用于集成電路(IC)制造領(lǐng)域，用于沉積絕緣層和介電層，隔離電路防止干擾，減少電流泄漏，提升產(chǎn)品的可靠性和耐久性。目前控股子公司惟新科技的氧化鋁靶材已完成了小批次驗證，根據(jù)客戶訂單需求供貨�！�

靶材——半導體制程中的關(guān)鍵材料

濺射靶材應(yīng)用于濺射薄膜沉積工藝，濺射沉積是一種物理氣相沉積（PVD）工藝，即在一定的真空環(huán)境下，利用荷能粒子轟擊材料表面，使材料表面濺射出粒子并沉積在基底表面形成薄膜。濺射薄膜沉積工藝可重復性好、膜厚可控，所制備的薄膜具有純度高、致密性好等優(yōu)點，可用于集成電路產(chǎn)業(yè)的高性能薄膜制備，對集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展具有重要推動作用。

ITO靶材

在濺射沉積工藝中，被轟擊的目標材料稱為濺射靶材。

濺射靶材可應(yīng)用于半導體、平板顯示、光伏、記錄存儲等多個領(lǐng)域。就其分類：按照形狀不同，濺射靶材可分為圓形靶、矩形靶和管狀靶。按照材質(zhì)不同，濺射靶材材可以分為純金屬靶材（鋁、鈦、銅、鉭等）、合金靶材（鎳鉻合金、鎳鈷合金等）、陶瓷化合物靶材（氧化物、硅化物、碳化物、硫化物等）。

陶瓷靶材按應(yīng)用分類

氧化鋁是一種常用的陶瓷靶材材料。一般來說，為了提高濺射效率及確保沉積薄膜的質(zhì)量，對陶瓷靶材有嚴格要求，首先陶瓷靶材的純度對濺射薄膜的性能影響挺大，陶瓷靶材的純度越高，濺射薄膜的均一性和批量產(chǎn)品質(zhì)量的一致性挺好，因此氧化鋁用作靶材時需用到高純度氧化鋁。

國產(chǎn)替代迫在眉睫

受到發(fā)展歷史和技術(shù)限制的影響，總體上濺射靶材行業(yè)在我國起步較晚，目前仍然屬于一個較新的行業(yè)。與國際知名企業(yè)生產(chǎn)的濺射靶材相比，我國濺射靶材市場影響力相對有限，尤其在半導體芯片、平板顯示器、太陽能電池等領(lǐng)域，全球高純?yōu)R射靶材市場依然被美國、日本生產(chǎn)廠商所控制或壟斷。隨著濺射靶材朝著更高純度、更大尺寸的方向發(fā)展，我國濺射靶材生產(chǎn)企業(yè)只有不斷進行研發(fā)創(chuàng)新，具備較強的產(chǎn)品開發(fā)能力，研制出適用不同應(yīng)用領(lǐng)域的濺射靶材產(chǎn)品，才能在全球濺射靶材市場中占得一席之地。

近年來，我國電子信息產(chǎn)業(yè)飛速發(fā)展，集成電路、顯示器、太陽能光伏行業(yè)均有大量企業(yè)出現(xiàn)，我國已逐漸成為世界上靶材的最大需求地區(qū)之一。由于靶材市場具有極高的技術(shù)壁壘和客戶認證壁壘，同時國際貿(mào)易格局存在較大的不確定性，國產(chǎn)替代迫在眉睫，使國內(nèi)靶材企業(yè)有機會受益于國產(chǎn)替代所帶來的契機。

關(guān)于康達新材

康達新材擁有三十多年膠粘劑新材料生產(chǎn)、研發(fā)和銷售經(jīng)驗，能深刻把握膠粘劑行業(yè)發(fā)展趨勢，技術(shù)與產(chǎn)品不斷推陳出新，競爭力穩(wěn)步提升，是國內(nèi)主要膠粘劑新材料生產(chǎn)企業(yè)之一。2018年公司開啟外延并購步伐，進入電子科技領(lǐng)域，逐步完善電子科技板塊產(chǎn)業(yè)鏈的布局；通過控股大連齊化向膠粘劑上游延伸，把控核心原材料，同時探索電子級環(huán)氧樹脂方向；通過收購晶材科技與惟新科技，聚焦以電子信息材料為核心的第二增長曲線中的ITO靶材、氧化鋁靶材、CMP（氧化鈰）拋光液、低溫共燒陶瓷（LTCC）等無機半導體材料領(lǐng)域，積極向先進新材料領(lǐng)域轉(zhuǎn)型。

參考來源：康達新材相關(guān)公告

（中國粉體網(wǎng)/山川）

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