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【原創(chuàng)】半導(dǎo)體零部件重要處理技術(shù)——陶瓷熔射


來源:中國粉體網(wǎng)   山川

[導(dǎo)讀]  陶瓷熔射是半導(dǎo)體零部件重要處理技術(shù)。

中國粉體網(wǎng)訊  半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展,催生了一大批服務(wù)配套產(chǎn)業(yè)。其中就包含設(shè)備零部件洗凈服務(wù)產(chǎn)業(yè),半導(dǎo)體設(shè)備零部件洗凈產(chǎn)業(yè)發(fā)展迅速,市場主體不斷增加,市場規(guī)模迅速增長。

 

洗凈服務(wù)是新設(shè)備零部件組裝前必不可少的關(guān)鍵環(huán)節(jié),也是使用中的設(shè)備日常保養(yǎng)和維護(hù)的重要措施和必要環(huán)節(jié)。半導(dǎo)體設(shè)備零部件對洗凈及延伸服務(wù)廠商在資金、技術(shù)、人才和客戶資源等各個方面要求要明顯高于面板行業(yè)。而面板設(shè)備零部件洗凈行業(yè)的零部件較大、市場競爭激烈、更看重價格,兩者差別明顯。

 

隨著產(chǎn)業(yè)的發(fā)展,洗凈服務(wù)企業(yè)的業(yè)務(wù)由單純的洗凈業(yè)務(wù)延伸到陶瓷熔射和陽極氧化等附加值較高的服務(wù)領(lǐng)域。泛半導(dǎo)體洗凈市場的服務(wù)產(chǎn)品幾乎涵蓋了整個工藝制程的設(shè)備零部件,其中以刻蝕設(shè)備和薄膜生長設(shè)備零部件業(yè)務(wù)為主,其他工藝制程的設(shè)備零部件(如離子注入、蒸鍍、OpenMask、爐管、化學(xué)機(jī)械研磨和光刻設(shè)備零部件)也都需要進(jìn)行定期的洗凈保養(yǎng),只是業(yè)務(wù)比重不大。

 

何為陶瓷熔射?


由于半導(dǎo)體制造過程經(jīng)常處于高溫、強(qiáng)腐蝕性環(huán)境中,因此半導(dǎo)體零部件約有一半以上需做表面處理,以提升其耐腐蝕性。例如半導(dǎo)體刻蝕設(shè)備的等離子體刻蝕腔室處于高密度、高腐蝕、高活性等離子體環(huán)境中,腔室及其組件極易受到等離子體的腐蝕,為了延長這些組件的使用壽命,經(jīng)常采用在鋁基材料(鋁與鋁合金)表面進(jìn)行陽極氧化、陶瓷熔射等手段以有效地降低等離子體對腔室及其它鋁基材料的腐蝕。

 

陶瓷熔射技術(shù)是一種熱噴涂技術(shù),其基本原理是將陶瓷材料加熱熔化,在氣體帶送高速下沖擊附著于底材或工件表面。熔射技術(shù)有火焰熔射、電弧熔射、電漿熔射、以及等離子熔射等不同的方法。發(fā)明人權(quán)太植公開了一種干式刻蝕工藝用陶瓷件的熔射方法,首先將待熔射陶瓷件放入到浸泡液中浸泡;接著采用純水洗凈陶瓷件并烘干;然后采用耐高溫遮蔽膠帶和特氟龍帽對陶瓷件進(jìn)行遮蔽,遮蔽非熔射面,露出熔射面;再對熔射面進(jìn)行噴砂處理,接著對熔射面進(jìn)行等離子噴涂;然后去除陶瓷件上遮蔽的耐高溫遮蔽膠帶和特氟龍帽,再進(jìn)行二次清洗,烘干;最后檢查熔射涂層的外觀和尺寸。

 


等離子噴涂工藝工作原理圖


陶瓷熔射的涂層性能指標(biāo)包括涂層厚度、硬度、結(jié)合強(qiáng)度、孔隙率、耐磨性、電化學(xué)性能、抗腐蝕性、表面離子污染和雜質(zhì)污染等物理化學(xué)性質(zhì)和使用性能。隨著產(chǎn)業(yè)的發(fā)展設(shè)備零部件對耐腐蝕涂層的要求越來越高,應(yīng)用范圍也越來越大。陶瓷熔射的主要零部件包括:半導(dǎo)體刻蝕腔體內(nèi)內(nèi)襯、鐘罩、靜電吸盤、氣體分配盤等關(guān)鍵零部件,TFT刻蝕腔體中的陶瓷板、內(nèi)壁板、上部電極、下部電極等重要零部件,在物理和化學(xué)氣相沉積設(shè)備的腔體中也有應(yīng)用。

 

2020年國內(nèi)泛半導(dǎo)體零部件清洗市場總計26億元人民幣,其中面板9.8億人民幣、半導(dǎo)體16.2億人民幣。據(jù)有關(guān)機(jī)構(gòu)預(yù)測,預(yù)計到2025年洗凈市場增加到43.4億,年復(fù)合增長率10.8%。在陶瓷熔射和陽極氧化方面,國內(nèi)廠商在半導(dǎo)體領(lǐng)域還需要破局,這兩方面業(yè)務(wù)市場達(dá)到4.9億人民幣,2025年將增長至8.7億人民幣。

 

參考來源:

[1]朱晶.半導(dǎo)體零部件產(chǎn)業(yè)現(xiàn)狀及對我國發(fā)展的建議

[2]一文讀懂國內(nèi)泛半導(dǎo)體設(shè)備零部件洗凈服務(wù)行業(yè).芯謀研究


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作者:山川

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