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日本研制成高純度碳化硅晶體


來源:

標(biāo)簽碳化硅
日本科學(xué)家在26日出版的《自然》雜志上報告說,他們開發(fā)出一種純度極高的碳化硅晶體,以該晶體制成的半導(dǎo)體將大大提高電子設(shè)備的效率。如果這項技術(shù)能夠推廣到工業(yè)生產(chǎn),將使電子業(yè)發(fā)生革命性的進步。
  在碳化硅多種結(jié)晶類型中,立方體單結(jié)晶的電性能最佳。與硅相比,碳化硅的導(dǎo)電率高、抗輻射性好,并且可以在超高溫下發(fā)揮作用。如果用碳化硅制成半導(dǎo)體,可大大減少電子設(shè)備的內(nèi)部消耗,提高電子設(shè)備的效率。

  多年以來,科學(xué)家一直希望用碳化硅代替硅來制作半導(dǎo)體。然而,高品質(zhì)結(jié)晶不易培育。普通技術(shù)培育的晶體生長到幾個厘米后就會出現(xiàn)明顯的溝道,造成晶體短路,因此無法使用在電子設(shè)備中。

  日本豐田中央研發(fā)實驗室的科學(xué)家在《自然》雜志上報告說,他們采取了一種特殊的方式分階段培育碳化硅晶體。在每一階段,研究人員將晶體的生長控制在最干凈的一個表面上。熱的碳化硅蒸氣逐漸沉積,當(dāng)晶體的邊擴展到7厘米時,其上的溝道就逐漸消失了。研究人員報告說,這種方法培育出的晶體的溝道數(shù)量只有傳統(tǒng)方式培育出的晶體的溝道數(shù)量的1%。

  英國電子專家在接受《自然》雜志采訪時說,碳化硅半導(dǎo)體的發(fā)展前景廣闊。使用硅半導(dǎo)體的電子設(shè)備,有50%的電能內(nèi)耗掉了。如果采用碳化硅,可使電能利用效率提高到70%。
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