據(jù)臺灣媒體報道，因應半導體業(yè)進入納米技術(shù)時代，2003年國際半導體技術(shù)藍圖（ITRS）日前表示，半導體制程將從2年更新一代的周期延長為3年更新一代；同時，由臺積電主導的65納米以下光罩制作“浸潤式微影技術(shù)”（Immersion Lithography），也與無線通訊IC制程一同增列于2003年ITRS藍圖中，供全球半導體業(yè)遵循。

　 由歐盟、日本、韓國、美國與臺灣半導體產(chǎn)業(yè)協(xié)會所組成的ITRS，每年開會提出技術(shù)藍圖修正。代表成員之一的旺宏資深副總經(jīng)理暨技術(shù)總監(jiān)盧志遠表示，隨著納米技術(shù)難度提高，業(yè)者投資腳步放慢，為避免全球多數(shù)業(yè)者跟不上技術(shù)時程，導致被淘汰的厄運，2003年技術(shù)藍圖確定改為每2年更新一代延長為3年。

??臺積電邏輯技術(shù)發(fā)展處協(xié)理孫元成介紹該公司大力推動的“浸潤式微影技術(shù)”是在193納米波長曝光機的基礎(chǔ)上，于光源與晶圓之間加入水，以使波長縮短到132納米的微影技術(shù)，比起目前一般干式微影設(shè)備，此技術(shù)可支持65納米、45納米，甚至到32納米制程，可說是微影技術(shù)的一大突破。

??無線通訊IC越居通訊技術(shù)主流，硅半導體業(yè)目前已可量產(chǎn)頻率高達5GHZ的射頻IC，硅晶圓與硅鍺晶圓（SiGe）技術(shù)兼容性高，技術(shù)可望推升到100GHZ的高水平，這次ITRS技術(shù)藍圖也首次將無線通訊IC獨立增列于其中。