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納米氧化鋅分散機(jī)
納米氧化鋅分散機(jī)

參考價格

面議

型號

CMD2000/4

品牌

IKN

產(chǎn)地

德國

樣本

暫無
上海依肯機(jī)械設(shè)備有限公司

金牌會員

|

第15年

|

生產(chǎn)商

工商已核實

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核心參數(shù)
  • 能耗:

    4KW
  • 處理量:

    0-300L/H
  • 物料類型:

    粉狀
  • 工作原理:

    立式
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納米氧化鋅分散機(jī),氧化鋅分散機(jī),納米氧化鋅研磨分散機(jī),高剪切分散機(jī),納米分散機(jī),研磨式分散機(jī)


納米氧化鋅粒徑介于1-100 nm之間,是一種面向21世紀(jì)的新型高功能精細(xì)無機(jī)產(chǎn)品,使其在陶瓷、化工、電子、光學(xué)、生物、醫(yī)藥等許多領(lǐng)域有重要的應(yīng)用價值,具有普通氧化鋅所無法比較的特殊性和用途。

        0317113328_168405.jpg
納米級粉末的分散,普遍會出現(xiàn)物料團(tuán)聚的現(xiàn)象,導(dǎo)致粒徑變大。IKN研磨式分散機(jī),將膠體磨和分散機(jī)一體化結(jié)合,先研磨后分散機(jī),解決團(tuán)聚問題!

CMD2000系列研磨式分散設(shè)備是IKN(上海)公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品,該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝,我們將三級變跟為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料,然后再經(jīng)過乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)
                

咨詢熱線:13795214885 賈清清  微信同手機(jī)號  公司有樣機(jī)可供客戶購前實驗,歡迎廣大客戶來我司參觀指導(dǎo)!

              
CMD2000系列研磨式分散機(jī)的特點:

①   線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨

②   定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

③   定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

④   在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

⑤   高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

磨頭組合.jpg


CMD2000系列設(shè)備選型表

型號

流量

L/H

轉(zhuǎn)速

rpm

線速度

m/s

功率

kw

入/出口連接

DN

CMD2000/4

300

9000

23

2.2

DN25/DN15

CMD2000/5

1000

6000

23

7.5

DN40/DN32

CMD2000/10

2000

4200

23

22

DN80/DN65

CMD2000/20

5000

2850

23

37

DN80/DN65

CMD2000/30

8000

1420

23

55

DN150/DN125

CMD2000/50

15000

1100

23

110

DN200/DN150

1.表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。

2.處理量取決于物料的粘度,稠度和*終產(chǎn)品的要求。

3.如高溫,高壓,易燃易爆,腐蝕性等工況,必須提供準(zhǔn)確的參數(shù),以便選型和定制。

4.本表的數(shù)據(jù)因技術(shù)改動,定制而不符,正確的參數(shù)以提供的實物為準(zhǔn).
納米氧化鋅分散機(jī),氧化鋅分散機(jī),納米物料分散機(jī),研磨式分散機(jī),IKN研磨式分散機(jī)專業(yè)于納米級物料的分散機(jī),解決團(tuán)聚問題,還原原始納米粒徑,更高效


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產(chǎn)品質(zhì)量

10分

售后服務(wù)

10分

易用性

10分

性價比

10分
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