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面議型號
CMD2000/4品牌
IKN產(chǎn)地
德國樣本
暫無能耗:
4KW處理量:
0-300L/H物料類型:
粉狀工作原理:
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納米氧化鋅分散機,氧化鋅分散機,納米氧化鋅研磨分散機,高剪切分散機,納米分散機,研磨式分散機
納米氧化鋅粒徑介于1-100 nm之間,是一種面向21世紀的新型高功能精細無機產(chǎn)品,使其在陶瓷、化工、電子、光學、生物、醫(yī)藥等許多領域有重要的應用價值,具有普通氧化鋅所無法比較的特殊性和用途。
納米級粉末的分散,普遍會出現(xiàn)物料團聚的現(xiàn)象,導致粒徑變大。IKN研磨式分散機,將膠體磨和分散機一體化結(jié)合,先研磨后分散機,解決團聚問題!
CMD2000系列研磨式分散設備是IKN(上海)公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝,我們將三級變跟為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料,然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)
咨詢熱線:13795214885 賈清清 微信同手機號 公司有樣機可供客戶購前實驗,歡迎廣大客戶來我司參觀指導!
CMD2000系列研磨式分散機的特點:
① 線速度很高,剪切間隙非常小,當物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨
② 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
③ 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離
④ 在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
⑤ 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
CMD2000系列設備選型表
型號 | 流量 L/H | 轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
CMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
CMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
CMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
CMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
1.表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。
2.處理量取決于物料的粘度,稠度和*終產(chǎn)品的要求。
3.如高溫,高壓,易燃易爆,腐蝕性等工況,必須提供準確的參數(shù),以便選型和定制。
4.本表的數(shù)據(jù)因技術(shù)改動,定制而不符,正確的參數(shù)以提供的實物為準.
納米氧化鋅分散機,氧化鋅分散機,納米物料分散機,研磨式分散機,IKN研磨式分散機專業(yè)于納米級物料的分散機,解決團聚問題,還原原始納米粒徑,更高效
納米級粉末的分散,普遍會出現(xiàn)物料團聚的現(xiàn)象,導致粒徑變大。IKN研磨式分散機,將膠體磨和分散機一體化結(jié)合,先研磨后分散機,解決團聚問題!
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2019-03-15
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2023-03-27
乳劑(Emulsion)是指互不相溶的兩相液體,其中一相以小液滴狀態(tài)分散于另一相液體中形成的非均勻分散的液體制劑。形成液滴的相稱為分散相、內(nèi)相或非連續(xù)相,另一相液體則稱為分散介質(zhì)、外相或連續(xù)相
2024-03-13
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2024-03-13
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