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CVD系列真空氣氛管式爐廣泛應(yīng)用于胳、中、低溫CVD工藝，例如；納米粉體的轉(zhuǎn)相、炭納米管的研制、晶體硅基板鍍膜、納米氧化鋅結(jié)構(gòu)的可控生長等等；也可適用于金屬材料的擴(kuò)散焊接以及真空或保護(hù)氣氛下熱處理。 采用高純石英管或剛玉管作為內(nèi)爐膛，可拆卸式的三面密封方式，具有良好的潔凈度和真空度；耐火、保溫材料全部采用先進(jìn)的輕質(zhì)纖維制品，整機(jī)質(zhì)量輕、能耗低；加熱元件采用U型硅鋁（炭）棒或原裝竟口電陰絲；溫控系統(tǒng)采用進(jìn)口多段智能程序溫度控制儀控制，溫度控制具有良好的穩(wěn)定性、重復(fù)性，溫度控制精度高 **溫度可達(dá)1650度，其他參數(shù)按照用戶提出系列要求來設(shè)計。 注：本公司可根據(jù)用戶要求提供各種非標(biāo)設(shè)計制造，歡迎來電咨詢。