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光學關鍵尺寸量測產(chǎn)品基于光學膜厚量測平臺，搭載自主研光學關鍵尺寸量測產(chǎn)品基于光學膜厚量測平臺，搭載自主研發(fā)算法功能，可應用于顯影后檢查（ADI）、刻蝕后檢查（AEI）等多種工藝段的二維或三維樣品的線寬、側壁角度（SWA）、高度（Height）/深度等關鍵尺寸（CD）特征或整體形貌測量。
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