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Zeta電位及納米粒度分析儀
Zeta電位及納米粒度分析儀

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型號

Zeta電位及納米粒度分析儀

品牌

上海捷鈦

產(chǎn)地

上海

樣本

暫無
上海捷鈦儀器設(shè)備有限公司

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Zeta電位及納米粒度分析儀

技術(shù)參數(shù):

粒度分析范圍: 0.3nm-10μm

重現(xiàn)性:誤差≤1%

濃度范圍:ppb-40%

檢測角度:180°

分析時間:30-120

準確性:全量程米氏理論及非球形顆粒校正因子

測量精度無需預選,依據(jù)實際測量結(jié)果,自動生成單峰/多峰分布結(jié)果

理論設(shè)計溫度:0-90℃,可以進行程序升溫或降溫

兼容性:兼容任何有機溶劑及大多數(shù)酸性或堿性溶液 

測量原理:

粒度測量:動態(tài)光背散射技術(shù)和全量程米氏理論處理分子量測量:水力直徑或德拜曲線技術(shù):膜電極,微電場電勢測量,“Y"型光纖探針設(shè)計,異相多普勒頻移,可控參比方法,快速傅立葉轉(zhuǎn)換算法,非球形顆粒校正因子

光學系統(tǒng):

3mW780nm半導體固定位置激光器,通過梯度步進光纖直接照射樣品,在固定位置用硅光二極管接受背散射光信號,無需校正光路 

軟件系統(tǒng):

先進的Microtrac FLEX軟件提供強大的數(shù)據(jù)處理能力,包括圖形,數(shù)據(jù)輸出/輸入,個性化輸出報告,及各種文字處理功能,如PDF格式輸出, Internet共享數(shù)據(jù),Microsoft Access格式(OLE)等。體積,數(shù)量,面積及光強分布,包括積分/微分百分比和其他分析統(tǒng)計數(shù)據(jù)。數(shù)據(jù)的完整性符合21 CFR PART 11安全要求,包括口令保護,電子簽名和授權(quán)等。

外部環(huán)境:

電源要求:90-240VAC,5A,50/60Hz環(huán)境要求:溫度,10-40°C相對濕度:小于95%

 配置:

有內(nèi)置和外置光纖測量探頭可選

Zeta電位及納米粒度分析儀

主要特點:﹡采用的動態(tài)光散射技術(shù),引入能普概念代替?zhèn)鹘y(tǒng)光子相關(guān)光譜法﹡的“Y"型光纖光路系統(tǒng),通過藍寶石測量窗口,直接測量懸浮體系中的顆粒粒度分布,在加載電流的情況下,與膜電極對應產(chǎn)生微電場,測量同一體系的Zeta電位, 避免樣品交叉污染與濃度變化。﹡的異相多譜勒頻移技術(shù),較之傳統(tǒng)的方法,獲得光信號強度高出幾個數(shù)量級,提高分析結(jié)果的可靠性。﹡的可控參比方法(CRM),能精細分析多譜勒頻移產(chǎn)生的能譜,確保分析的靈敏度。﹡超短的顆粒在懸浮液中的散射光程設(shè)計,減少了多重散射現(xiàn)象的干擾,保證高濃度溶液中納米顆粒測試的準確性。﹡的快速傅利葉變換算法(FFT,Fast FourierTransform Algorithm Method,迅速處理檢測系統(tǒng)獲得的能譜,縮短分析時間。﹡膜電極設(shè)計,避免產(chǎn)生熱效應,能準確測量顆粒電泳速度。﹡無需比色皿,毛細管電泳池或外加電極池,僅需點擊Zeta電位操作鍵,一分鐘內(nèi)即可得到分析結(jié)果﹡消除多種空間位阻對散射光信號的干擾,諸如光路中不同光學元器件間傳輸?shù)膿p失,樣品池位置不同帶來的誤差,比色皿器壁的折射與污染,分散介質(zhì)的影響,多重散射的衰減等,提高靈敏度。


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