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桂林礦機GK高比表氫氧化鈣設備
桂林礦機GK高比表氫氧化鈣設備

參考價格

100-150萬元

型號

高比表氫氧化鈣設備

品牌

產(chǎn)地

桂林

樣本

暫無
桂林礦山機械有限公司

白金會員

|

第18年

|

生產(chǎn)商

工商已核實

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核心參數(shù)
  • 工作原理:

    輥壓碾磨
  • 粉碎程度:

    超細粉碎
  • 單位能耗:

    詳情見桂礦說明書
  • 產(chǎn)量:

    10-40t/h
  • 裝機功率(kw):

    125/202/242
  • 成品細度:

    80-325目
  • 入料粒度(mm):

    最大35mm
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高比表面積氫氧化鈣的制備方法


制備高比表面積氫氧化鈣的方法有多種,其中較為常用的有以下幾種:


1. 化學沉淀法

化學沉淀法是制備高比表面積氫氧化鈣*常用的方法之一。該方法以鈣鹽溶液為原料,通過控制反應條件(如溫度、濃度、pH值等),使鈣離子與氫氧根離子發(fā)生反應生成氫氧化鈣,再經(jīng)過濾、洗滌、干燥等步驟得到產(chǎn)品?;瘜W沉淀法具有工藝簡單、成本低廉等優(yōu)點,但產(chǎn)品比表面積和純度相對較低。


2. 微乳液法

微乳液法是一種制備高純度高比表面積氫氧化鈣的方法。該方法以鈣鹽溶液和堿溶液為原料,在表面活性劑的作用下形成微乳液,使鈣離子與氫氧根離子反應生成氫氧化鈣。微乳液法可以得到比表面積較大、粒徑分布較窄的產(chǎn)品,但工藝復雜、成本較高。


3. 模板法

模板法是一種制備具有特定結(jié)構(gòu)和性能的納米材料的方法。該方法以特定的模板為載體,通過在模板中引入鈣離子和堿離子,使它們發(fā)生反應生成氫氧化鈣。模板法可以得到具有特定結(jié)構(gòu)和形貌的產(chǎn)品,但工藝復雜、成本較高。


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