參考價格
面議型號
ICP-RIE 等離子體刻蝕機品牌
重慶眺望產(chǎn)地
重慶樣本
暫無看了ICP-RIE 等離子體刻蝕機的用戶又看了
留言詢價
虛擬號將在 180 秒后失效
使用微信掃碼撥號
納米結(jié)構(gòu)低損傷刻蝕
由于等離子的能量分布低，從而能實現(xiàn)低損傷刻蝕和納米結(jié)構(gòu)刻蝕。
簡單高速率刻蝕
MEMS制造工藝中，Si材料光滑側(cè)壁的高速高選擇比刻蝕，可以很容易的通過室溫或低溫工藝實現(xiàn)。
內(nèi)置ICP等離子源
平板三螺旋天線(PTSA)等離子源是SENTECH獨有的高端等離子工藝系統(tǒng)。PTSA能產(chǎn)生高密度低能量分布的等離子體。在多種材料刻蝕工藝中都能實現(xiàn)高效率耦合及穩(wěn)定起輝 。動態(tài)溫控
襯底溫度設(shè)定和工藝過程中的穩(wěn)定性是影響刻蝕工藝質(zhì)量的重要因素。ICP襯底電極結(jié)合背面氦氣冷卻和溫度傳感器進行動態(tài)溫控，工藝溫度范圍為-150°C 至 +400°C:
SENTECH面向高靈活性和高產(chǎn)能的刻蝕和沉積系統(tǒng)提供各種級別的自動化裝置，從預(yù)真空系統(tǒng)到**6端口的多工藝腔室裝置。5I500可以作為多腔室工藝模塊。
暫無數(shù)據(jù)！
ICP-RIE 等離子體刻蝕機的工作原理介紹？ICP-RIE 等離子體刻蝕機的使用方法？ICP-RIE 等離子體刻蝕機多少錢一臺？ICP-RIE 等離子體刻蝕機使用的注意事項ICP-RIE 等離子體刻蝕機的說明書有嗎？ICP-RIE 等離子體刻蝕機的操作規(guī)程有嗎？ICP-RIE 等離子體刻蝕機的報價含票含運費嗎？ICP-RIE 等離子體刻蝕機有現(xiàn)貨嗎？ICP-RIE 等離子體刻蝕機包安裝嗎？
手機版：
工商已核實
