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CMP后清洗液
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型號

CMP后清洗液

品牌

湖北鼎龍

產(chǎn)地

湖北

樣本

暫無
湖北鼎龍控股股份有限公司

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    工業(yè)級
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    液體
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主要用于去除殘留在晶圓表面的微塵顆粒、有機(jī)物、無機(jī)物、金屬離子、氧化物等雜質(zhì),滿足集成電路制造對清潔度的極高要求,對晶圓生產(chǎn)的良率起到了重要的作用。全系列原材料電子級純化產(chǎn)線,諸多核心材料自主生產(chǎn)。

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