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磷化銦單晶片InP
磷化銦單晶片InP

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磷化銦單晶片InP

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中芯晶研

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廈門中芯晶研半導體有限公司

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磷化銦(InP)是由銦和磷組成的二元半導體。它具有面心立方(“zincblende”)晶體結(jié)構(gòu),與GaAs和大多數(shù)III-V半導體相同。磷化銦可以通過白磷和碘化銦在400℃下的反應制備,也可以通過在高溫和高壓下直接組合純化的元素,或通過三烷基銦化合物和膦的混合物的熱分解來制備。磷化銦用于高功率和高頻電子設備,因為它相對于更常見的半導體硅和砷化鎵具有優(yōu)異的電子速度。它與銦鎵砷一起用于制造破紀錄的假晶異質(zhì)結(jié)雙極晶體管,其可以在604GHz下工作。它還具有直接帶隙,使其可用于激光二極管等光電器件。Infinera公司使用磷化銦作為制造光通信行業(yè)光子集成電路的主要技術(shù)材料,以實現(xiàn)波分復用應用。磷化銦還用作外延基于銦鎵砷的光電器件的襯底。廈門中芯晶研可提供2”,3”,4”磷化銦單晶片。image.png

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