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芳綸纖維分散機(jī)，芳綸纖維研磨分散機(jī)， 中試型芳綸纖維研磨分散機(jī)， 助燃纖維研磨分散機(jī) ，進(jìn)口高剪切分散機(jī)，德國(guó)芳綸研磨分散機(jī)，14400轉(zhuǎn)研磨分散機(jī)，工業(yè)化研磨分散機(jī)，中試型研磨分散機(jī)

芳綸漿粕是對(duì)芳綸纖維進(jìn)行表面原纖化處理之后便得到的，其特的表面結(jié)構(gòu)地提高了混合物的抓附力，因此非常適合作為一種增強(qiáng)纖維應(yīng)用于摩擦及密封產(chǎn)品中。
芳綸漿粕纖維因兼有的濕加工性能和增強(qiáng)性能而被廣泛用于工業(yè)造紙。漿粕在水中很易分散抄紙，且漿粕原纖的高長(zhǎng)徑比提供了芳綸漿粕強(qiáng)度，除了能夠改進(jìn)彈性基體的抗拉強(qiáng)度、模量以及抗蠕變等性能外，由于其熱膨脹系數(shù)小、質(zhì)輕、電性能而適合做絕緣用紙及需尺寸穩(wěn)定性的印刷集成電路板，芳綸漿粕的輕量化高密度元件，可用于衛(wèi)星通信線路、高速傳遞回路等電子產(chǎn)品。
芳綸漿粕研磨分散機(jī)是電動(dòng)機(jī)通過(guò)皮帶傳動(dòng)帶動(dòng)轉(zhuǎn)齒（或稱為轉(zhuǎn)子）與相配的定齒（或稱為定子）作相對(duì)的高速旋轉(zhuǎn)，被加工物料通過(guò)本身的重量或外部壓力（可由泵產(chǎn)生）加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力，透過(guò)膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化均質(zhì)分散的效果。

芳綸纖維在分散時(shí)極易產(chǎn)生自身的團(tuán)聚，使得應(yīng)有的性能難以充分發(fā)揮。此外，納米氧化物的諸多奇異性能能否得到充分發(fā)揮，還取決于***大限度降低粉體與介質(zhì)間的表面張力。因此，納米氧化物粉體均勻分散，充分打開其團(tuán)聚體，才能發(fā)揮其應(yīng)有的奇異性能。

納米材料在涂料體系中的分散，一般是采用下述分散方法來(lái)達(dá)到分散效果。

◆ 研磨分散：利用三輥機(jī)或多輥機(jī)的輥與輥速度的不同，將研磨料投入加料輥（后輥）和中輥之間的加料溝，二輥以不同速度內(nèi)向旋轉(zhuǎn)，部分研磨料進(jìn)入加料縫并受到強(qiáng)大的剪切作用，通過(guò)加料縫，研磨料被分為兩部分，一部分附加在加料輥上回到加料溝，另一部分由中輥帶到中輥和前輥之間的刮漆縫，在此又一次受到更強(qiáng)大的剪切力作用。經(jīng)過(guò)刮漆縫，研磨料又分成兩部分，一部分由前輥帶到刮刀處，落入刮漆盤，另一部分再回到加料溝，如此經(jīng)幾次循環(huán)，可達(dá)到分散的目的。但用三輥機(jī)或多輥機(jī)進(jìn)行處理效率低，能耗高，滿足不了大生產(chǎn)的需求。

◆ 球磨分散: 通過(guò)球磨機(jī)中磨球之間及磨球與缸體間相互滾撞作用，使接觸鋼球的粉體粒子被撞碎或磨碎，同時(shí)使混合物在球的空隙內(nèi)受到高度湍動(dòng)混合作用而被均勻地分散。

◆ 砂磨分散: 砂磨是球磨的外延。只不過(guò)研磨介質(zhì)是用微細(xì)的珠或砂。砂磨機(jī)可連續(xù)進(jìn)料，納米粉體的預(yù)混合漿通過(guò)圓筒時(shí)，在筒中受到激烈攪拌的砂粒所給予的猛烈的撞擊和剪切作用，使得納米氧化物能很好地分散在涂料中，分散后的漿離開砂粒研磨區(qū)通過(guò)出口篩，溢流排出，出口篩可擋住砂粒，并使其回到筒中。通過(guò)球磨機(jī)和砂磨機(jī)分散能取得較好的分散效果及物料細(xì)度，但球磨機(jī)和砂磨機(jī)同樣無(wú)法避免處理效率低，能耗高的缺點(diǎn)。

◆ 研磨分散機(jī): 高剪切分散機(jī)的核心部件是定子/轉(zhuǎn)子結(jié)構(gòu)，轉(zhuǎn)子高速旋轉(zhuǎn)所產(chǎn)生的高切線速度和高頻機(jī)械效應(yīng)帶來(lái)強(qiáng)勁的動(dòng)能，使物料在定、轉(zhuǎn)子狹窄的間隙中受到強(qiáng)烈的機(jī)械剪切、液力剪切、離心擠壓、液層磨擦、撞擊撕裂和湍流等綜合作用，使不相溶的固相、液相、氣相在相應(yīng)成熟工藝的條件下，瞬間均勻精細(xì)地分散，經(jīng)過(guò)高頻的循環(huán)往復(fù)，***終得到穩(wěn)定的產(chǎn)品。與三輥機(jī)、球磨機(jī)、砂磨機(jī)相比，研磨分散機(jī)具有、能耗低等顯x優(yōu)點(diǎn)，是分散工藝的。

納米材料研磨分散設(shè)備是IKN（上海）公司經(jīng)過(guò)研究研發(fā)出的一款新型產(chǎn)品，該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)的物料。

我們將三級(jí)高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝，我們?cè)谌榛^上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過(guò)膠體磨細(xì)化物料，然后再經(jīng)過(guò)乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）

設(shè)備其它參數(shù):

設(shè)備等級(jí)：化工級(jí)、衛(wèi)生I級(jí)、衛(wèi)生II級(jí)、無(wú)菌級(jí)
電機(jī)形式：普通馬達(dá)、變頻調(diào)速馬達(dá)、防爆馬達(dá)、變頻防爆馬達(dá)、
電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機(jī)選配件： PTC 熱保護(hù)、降噪型
研磨分散機(jī)材質(zhì)：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機(jī)選配：儲(chǔ)液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動(dòng)小車
研磨分散機(jī)表面處理：拋光、耐磨處理
進(jìn)出口聯(lián)結(jié)形式：法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機(jī)選配容器：本設(shè)備適合于各種不同大小的容器
選配容器：本設(shè)備適合于各種不同大小的容器

型號(hào) 流量L/H 轉(zhuǎn)速rpm 線速度m/s 功率kw 入/出口連接DN
CMD 2000/4 300 9,000 23 2.2 DN25/DN15
CMD 2000/5 1000 6,000 23 7.5 DN40/DN32
CMD 2000/10 3000 4,200 23 22 DN80/DN65
CMD 2000/20 8000 2,850 23 37 DN80/DN65
CMD 2000/30 20000 1,420 23 55 DN150/DN125
CMD2000/50 60000 1,100 23 110 DN200/DN150
*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到***大允許量的10%。
1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)。
2 處理量取決于物料的粘度，稠度和***終產(chǎn)品的要求。
3 如高溫，高壓，易燃易爆，腐蝕性等工況，提供準(zhǔn)確的參數(shù)，以便選型和定制。

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