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IKN芳綸纖維分散機
IKN芳綸纖維分散機

參考價格

10-20萬元

型號

CMD

品牌

IKN

產(chǎn)地

德國

樣本

暫無
上海依肯機械設(shè)備有限公司

金牌會員

|

第15年

|

生產(chǎn)商

工商已核實

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核心參數(shù)
  • 調(diào)速范圍:

    0-14000 rpm
  • 分散輪直徑(mm):

    55
  • 全容積(m3):

    不限
  • 能耗:

    4 kW
  • 處理量:

    300-1000 L/H
  • 物料類型:

    液體、固體、粉末、粘稠液體、漿料等
  • 工作原理:

    立式
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芳綸纖維分散機,芳綸纖維研磨分散機, 中試型芳綸纖維研磨分散機, 助燃纖維研磨分散機 ,進(jìn)口高剪切分散機,德國芳綸研磨分散機,14400轉(zhuǎn)研磨分散機,工業(yè)化研磨分散機,中試型研磨分散機


芳綸漿粕是對芳綸纖維進(jìn)行表面原纖化處理之后便得到的,其特的表面結(jié)構(gòu)地提高了混合物的抓附力,因此非常適合作為一種增強纖維應(yīng)用于摩擦及密封產(chǎn)品中。
芳綸漿粕纖維因兼有的濕加工性能和增強性能而被廣泛用于工業(yè)造紙。漿粕在水中很易分散抄紙,且漿粕原纖的高長徑比提供了芳綸漿粕強度,除了能夠改進(jìn)彈性基體的抗拉強度、模量以及抗蠕變等性能外,由于其熱膨脹系數(shù)小、質(zhì)輕、電性能而適合做絕緣用紙及需尺寸穩(wěn)定性的印刷集成電路板,芳綸漿粕的輕量化高密度元件,可用于衛(wèi)星通信線路、高速傳遞回路等電子產(chǎn)品。
芳綸漿粕研磨分散機是電動機通過皮帶傳動帶動轉(zhuǎn)齒(或稱為轉(zhuǎn)子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的高速旋轉(zhuǎn),被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力,透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化均質(zhì)分散的效果。


芳綸纖維在分散時極易產(chǎn)生自身的團聚,使得應(yīng)有的性能難以充分發(fā)揮。此外,納米氧化物的諸多奇異性能能否得到充分發(fā)揮,還取決于***大限度降低粉體與介質(zhì)間的表面張力。因此,納米氧化物粉體均勻分散,充分打開其團聚體,才能發(fā)揮其應(yīng)有的奇異性能。

納米材料在涂料體系中的分散,一般是采用下述分散方法來達(dá)到分散效果。

◆ 研磨分散:利用三輥機或多輥機的輥與輥速度的不同,將研磨料投入加料輥(后輥)和中輥之間的加料溝,二輥以不同速度內(nèi)向旋轉(zhuǎn),部分研磨料進(jìn)入加料縫并受到強大的剪切作用,通過加料縫,研磨料被分為兩部分,一部分附加在加料輥上回到加料溝,另一部分由中輥帶到中輥和前輥之間的刮漆縫,在此又一次受到更強大的剪切力作用。經(jīng)過刮漆縫,研磨料又分成兩部分,一部分由前輥帶到刮刀處,落入刮漆盤,另一部分再回到加料溝,如此經(jīng)幾次循環(huán),可達(dá)到分散的目的。但用三輥機或多輥機進(jìn)行處理效率低,能耗高,滿足不了大生產(chǎn)的需求。

◆ 球磨分散: 通過球磨機中磨球之間及磨球與缸體間相互滾撞作用,使接觸鋼球的粉體粒子被撞碎或磨碎,同時使混合物在球的空隙內(nèi)受到高度湍動混合作用而被均勻地分散。

◆ 砂磨分散: 砂磨是球磨的外延。只不過研磨介質(zhì)是用微細(xì)的珠或砂。砂磨機可連續(xù)進(jìn)料,納米粉體的預(yù)混合漿通過圓筒時,在筒中受到激烈攪拌的砂粒所給予的猛烈的撞擊和剪切作用,使得納米氧化物能很好地分散在涂料中,分散后的漿離開砂粒研磨區(qū)通過出口篩,溢流排出,出口篩可擋住砂粒,并使其回到筒中。通過球磨機和砂磨機分散能取得較好的分散效果及物料細(xì)度,但球磨機和砂磨機同樣無法避免處理效率低,能耗高的缺點。

◆ 研磨分散機: 高剪切分散機的核心部件是定子/轉(zhuǎn)子結(jié)構(gòu),轉(zhuǎn)子高速旋轉(zhuǎn)所產(chǎn)生的高切線速度和高頻機械效應(yīng)帶來強勁的動能,使物料在定、轉(zhuǎn)子狹窄的間隙中受到強烈的機械剪切、液力剪切、離心擠壓、液層磨擦、撞擊撕裂和湍流等綜合作用,使不相溶的固相、液相、氣相在相應(yīng)成熟工藝的條件下,瞬間均勻精細(xì)地分散,經(jīng)過高頻的循環(huán)往復(fù),***終得到穩(wěn)定的產(chǎn)品。與三輥機、球磨機、砂磨機相比,研磨分散機具有、能耗低等顯x優(yōu)點,是分散工藝的。


納米材料研磨分散設(shè)備是IKN(上海)公司經(jīng)過研究研發(fā)出的一款新型產(chǎn)品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)的物料。

我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進(jìn)行改裝,我們在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料,然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)

設(shè)備其它參數(shù):

設(shè)備等級:化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級
電機形式:普通馬達(dá)、變頻調(diào)速馬達(dá)、防爆馬達(dá)、變頻防爆馬達(dá)、
電源選擇: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機選配件: PTC 熱保護、降噪型
研磨分散機材質(zhì):SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機選配:儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
研磨分散機表面處理:拋光、耐磨處理
進(jìn)出口聯(lián)結(jié)形式:法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機選配容器:本設(shè)備適合于各種不同大小的容器
選配容器:本設(shè)備適合于各種不同大小的容器



型號 流量L/H 轉(zhuǎn)速rpm 線速度m/s 功率kw 入/出口連接DN
CMD 2000/4 300 9,000 23 2.2 DN25/DN15
CMD 2000/5 1000 6,000 23 7.5 DN40/DN32
CMD 2000/10 3000 4,200 23 22 DN80/DN65
CMD 2000/20 8000 2,850 23 37 DN80/DN65
CMD 2000/30 20000 1,420 23 55 DN150/DN125
CMD2000/50 60000 1,100 23 110 DN200/DN150
*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調(diào)節(jié)到***大允許量的10%。
1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。
2 處理量取決于物料的粘度,稠度和***終產(chǎn)品的要求。
3 如高溫,高壓,易燃易爆,腐蝕性等工況,提供準(zhǔn)確的參數(shù),以便選型和定制。


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創(chuàng)新點

芳綸分散設(shè)備 管線式芳綸分散

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產(chǎn)品質(zhì)量

10分

售后服務(wù)

10分

易用性

10分

性價比

10分
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