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面議型號(hào)
圓偏振發(fā)光光譜儀品牌
上海良允產(chǎn)地
上海樣本
暫無(wú)重現(xiàn)性：
-儀器原理：
其他分散方式：
-測(cè)量時(shí)間：
-測(cè)量范圍：
250- 850 nm 400 -1100 nm (選配 PMT)誤差率：
-分辨率：
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測(cè)試原理:
當(dāng)發(fā)光手性分子被光激發(fā)后，產(chǎn)生的熒光在左右圓極化強(qiáng)度方面會(huì)體現(xiàn)出一定的差異性，這種現(xiàn)象被認(rèn)為是圓偏振發(fā)光性（CPL）。常規(guī)的圓二色譜儀CD僅能檢測(cè)材料基態(tài)的手性，而該儀器能檢測(cè)材料激發(fā)態(tài)的手性信息。
主要應(yīng)用：
* 鑭系錒系離子配合物的光學(xué)性能研究
* 手性發(fā)光材料的光學(xué)活性研究
* 手性發(fā)光納米粒子的光學(xué)活性研究
* 過(guò)渡金屬配合物及晶體的研究
技術(shù)參數(shù)
光源 | 150W 氙燈（風(fēng)冷） (選配：150W 風(fēng)冷HgXe燈) |
檢測(cè)器 | PMT |
調(diào)幅器 | 壓電彈性調(diào)幅器 |
數(shù)據(jù)采集器 | 鎖定放大器 |
單色器 | 雙棱鏡單色器 |
光譜范圍 | 250- 850 nm 400 -1100 nm (選配 PMT) |
波長(zhǎng)精度 | ±0.2 nm (250-500 nm) ±0.5 nm (500-800 nm) ±1.5 nm (800-1100 nm) |
波長(zhǎng)重復(fù)性 | ±0.05 nm (250-500 nm) ±0.1 nm (500-800 nm) ±0.5 nm (800-1100 nm) |
狹縫寬度 | 1—4000 μm |
積分時(shí)間 | 0.1ms-30s |
掃描方式 | 連續(xù)掃描 步進(jìn)掃描 自動(dòng)掃描 |
掃描速度 | 10000 nm /分鐘 |
CPL分辨率 | 0.00001 mdeg |
波長(zhǎng)分辨率 | 0.025 nm |
雜散光 | ≤0.001% |
**范圍 | ± 8000 mdeg |
暫無(wú)數(shù)據(jù)！
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