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RDB-PGY-CeO2品牌
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上海研倍新材料 專業(yè)生產(chǎn)納米粉末 氧化鈰拋光液 CeO2 納米材料
1、產(chǎn)品信息
貨號 | 純度 | 規(guī)格 | 形貌 | 備注 |
RDB-PGY-CeO2 | 30% | 20-30nm | 不規(guī)則 | 水性，陰離子 |
2、產(chǎn)品規(guī)格
1、樣品測試包裝客戶指定（＜1kg/袋裝）
2、樣品產(chǎn)品包裝（1kg/袋裝）
3、常規(guī)產(chǎn)品包裝（1kg/2kg/5kg/10kg）
備注：內(nèi)：充惰性氣體 外：鋁箔袋真空?？筛鶕?jù)客戶要求指定包裝。
3、產(chǎn)品概述
產(chǎn)品通過“選用凈化原料+生產(chǎn)純化工藝+品控智能控制”制備生成，產(chǎn)品具有技術(shù)含量高、晶相純、磁性異物少、含水量低、化學(xué)性能穩(wěn)定的特點(diǎn)。
4、產(chǎn)品用途
半導(dǎo)體制造:
硅片拋光:這是氧化鈰拋光液*主要的應(yīng)用領(lǐng)域。在集成電路制造過程中，需要對硅片進(jìn)行平坦化處理，以保證后續(xù)工藝的順利進(jìn)行。氧化鈰拋光液可以有效去除硅片表面的微觀缺陷和粗糙度，獲得原子級平整的表面。
金屬層拋光:在多層金屬互連結(jié)構(gòu)中，氧化鈰拋光液也可以用于拋光銅、鋁等金屬層，以保證金屬層的平整度和線寬精度。
介質(zhì)層拋光:氧化鈰拋光液可以用于拋光各種介質(zhì)層，例如二氧化硅、氮化硅等，以保證器件的性能和可靠性。
光學(xué)元件拋光:
玻璃拋光:氧化鈰拋光液可以用于拋光各種光學(xué)玻璃，例如熔融石英、硼硅酸鹽玻璃等，以提高光學(xué)元件的表面質(zhì)量，減少光散射和提高光學(xué)透過率。
晶體拋光:氧化鈰拋光液也可以用于拋光各種光學(xué)晶體，例如藍(lán)寶石、YAG等，以提高其表面質(zhì)量和光學(xué)性能。
精密制造:
精密陶瓷拋光:氧化鈰拋光液可以用于拋光精密陶瓷部件，以提高其表面質(zhì)量和尺寸精度。
金屬部件拋光:除了半導(dǎo)體制造中的金屬層拋光外，氧化鈰拋光液也可以用于拋光其他金屬部件，以提高其表面光潔度和耐腐蝕性。
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高熵合金（High entropy alloys，HEAs）是由4種或4種以上元素以等摩爾比或近似等摩爾比組成的具有簡單晶體結(jié)構(gòu)的合金。與傳統(tǒng)合金不同，高熵合金沒有主體元素，傾向于形成簡單固溶體結(jié)構(gòu)，
摘 要為改善難熔高熵合金的熱加工性，通過等離子輔助氣體合金化的方式在熔煉氣氛中通入 H?和 Ar 的混合氣體，使氫溶入TiZrHfNbMo 難熔高熵合金中。研究了不同 H 含量下，TiZrHfNbMo
研究背景7xxx系列鋁合金，如7075鋁合金，具有重量輕、強(qiáng)度高、耐腐蝕性能好、抗疲勞性能優(yōu)異等特點(diǎn)，是航空航天和汽車工業(yè)的高性能工程合金。隨著航空航天工業(yè)的蓬勃發(fā)展，傳統(tǒng)的加工方法，如鑄造、激光焊接
研究背景金屬3D打印技術(shù)（又稱金屬增材制造）相較于傳統(tǒng)減材工藝，在復(fù)雜構(gòu)件一體化成型、輕量化設(shè)計(jì)和材料利用率方面展現(xiàn)出顯著優(yōu)勢。然而該技術(shù)目前僅能穩(wěn)定應(yīng)用于316L、IN718等有限種類的商用合金，其
納米材料 氧化鈰拋光液 CeO2的工作原理介紹？納米材料 氧化鈰拋光液 CeO2的使用方法？納米材料 氧化鈰拋光液 CeO2多少錢一臺？納米材料 氧化鈰拋光液 CeO2使用的注意事項(xiàng)納米材料 氧化鈰拋光液 CeO2的說明書有嗎？納米材料 氧化鈰拋光液 CeO2的操作規(guī)程有嗎？納米材料 氧化鈰拋光液 CeO2的報(bào)價(jià)含票含運(yùn)費(fèi)嗎？納米材料 氧化鈰拋光液 CeO2有現(xiàn)貨嗎？納米材料 氧化鈰拋光液 CeO2包安裝嗎？
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