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一氧化硅 SiO 高純陶瓷靶材
一氧化硅 SiO 高純陶瓷靶材

參考價(jià)格

面議

型號(hào)

RDB-BC-SiO

品牌

上海研倍

產(chǎn)地

上海

樣本

暫無(wú)
上海研倍新材料科技有限公司

白金會(huì)員

|

第1年

|

生產(chǎn)商

工商已核實(shí)

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  • 主要材質(zhì):

    一氧化硅
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上海研倍新材料 專業(yè)生產(chǎn)合金靶材 一氧化硅 SiO靶材 高純陶瓷靶材

1、產(chǎn)品信息

氧化硅是硅與氧的化合物,其在自然界中以多種形態(tài)存在,如石英、長(zhǎng)石等。在晶體學(xué)上,氧化硅通常表現(xiàn)為晶體結(jié)構(gòu),具有高熔點(diǎn)和良好的熱穩(wěn)定性。一般來(lái)說(shuō),氧化硅靶材通常指的是將氧化硅制成特定形狀的靶材,以用于高能粒子束轟擊(如濺射技術(shù))或化學(xué)氣相沉積(CVD)等方法,以生產(chǎn)具有特定結(jié)構(gòu)和性能的薄膜。

2、產(chǎn)品規(guī)格

1、樣品測(cè)試包裝客戶指定(<1kg/袋裝)

2、樣品產(chǎn)品包裝(1kg/袋裝)

3、常規(guī)產(chǎn)品包裝(1kg/2kg/5kg/10kg)

備注:真空封裝??筛鶕?jù)客戶要求指定包裝。

3、產(chǎn)品概述

產(chǎn)品通過(guò)“選用凈化原料+生產(chǎn)純化工藝+品控智能控制”制備生成,產(chǎn)品具有技術(shù)含量高、晶相純、磁性異物少、含水量低、化學(xué)性能穩(wěn)定的特點(diǎn)。

4、產(chǎn)品用途

半導(dǎo)體制造

氧化硅靶材在半導(dǎo)體制造中用于生產(chǎn)絕緣層,尤其是在集成電路(IC)和微處理器制造過(guò)程中,作為諸如柵極絕緣層、介電層等關(guān)鍵部件的材料,以確保電子元件的性能和穩(wěn)定性。

光學(xué)應(yīng)用

在光學(xué)領(lǐng)域,氧化硅用于制造高透明度的窗口材料、反射鏡、透鏡等光學(xué)元件,以及作為光纖的包層材料,以保持光信號(hào)的高效率傳輸。

太陽(yáng)能電池

在太陽(yáng)能電池制造中,氧化硅作為薄膜太陽(yáng)能電池的基板材料,或作為增透膜使用,以提高光的吸收效率。

研究與開(kāi)發(fā)

在科學(xué)研究中,氧化硅靶材用于制造各種實(shí)驗(yàn)設(shè)備的表面涂層,如用于光譜分析、納米材料生長(zhǎng)等。

電子封裝與防護(hù)

在電子產(chǎn)品中,氧化硅用于提供電子元件的封裝層,增強(qiáng)其抗外部環(huán)境的性能,如機(jī)械沖擊、濕氣侵蝕等。

環(huán)境凈化

在空氣凈化系統(tǒng)中,氧化硅作為過(guò)濾材料,用于去除空氣中的顆粒物和有害物質(zhì)。


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10分

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10分

性價(jià)比

10分
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